Prodotti

Rivestimento in carburo di silicio

VeTek Semiconductor è specializzata nella produzione di prodotti di rivestimento in carburo di silicio ultra puri, questi rivestimenti sono progettati per essere applicati a grafite purificata, ceramica e componenti metallici refrattari.


I nostri rivestimenti ad elevata purezza sono destinati principalmente all'uso nei settori dei semiconduttori e dell'elettronica. Fungono da strato protettivo per supporti wafer, suscettori ed elementi riscaldanti, proteggendoli dagli ambienti corrosivi e reattivi incontrati in processi come MOCVD ed EPI. Questi processi sono parte integrante della lavorazione dei wafer e della produzione dei dispositivi. Inoltre, i nostri rivestimenti sono particolarmente adatti per applicazioni in forni a vuoto e riscaldamento di campioni, dove si incontrano ambienti ad alto vuoto, reattivi e con ossigeno.


Noi di VeTek Semiconductor offriamo una soluzione completa con le nostre capacità avanzate di officina meccanica. Ciò ci consente di produrre i componenti di base utilizzando grafite, ceramica o metalli refrattari e di applicare internamente i rivestimenti ceramici SiC o TaC. Forniamo anche servizi di rivestimento per le parti fornite dai clienti, garantendo flessibilità per soddisfare le diverse esigenze.


I nostri prodotti di rivestimento in carburo di silicio sono ampiamente utilizzati nell'epitassia Si, epitassia SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo di incisione, processo di incisione ICP/PSS, processo di vari tipi di LED, inclusi LED blu e verde, LED UV e UV profondo LED ecc., adattato alle apparecchiature LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e così via.


Parti del reattore che possiamo realizzare:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Il rivestimento in carburo di silicio offre diversi vantaggi esclusivi:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parametro del rivestimento in carburo di silicio di VeTek Semiconductor

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura cristallina FCC fase β policristallina, prevalentemente orientata (111).
Densità del rivestimento SiC 3,21 g/cm³
Rivestimento SiCDurezza Durezza 2500 Vickers (carico 500 g)
Granulometria 2~10μm
Purezza chimica 99,99995%
Capacità termica 640 J·kg-1·K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Resistenza alla flessione 415 MPa RT a 4 punti
Modulo di Young Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conducibilità termica 300W·m-1·K-1
Dilatazione termica (CTE) 4,5×10-6K-1

STRUTTURA CRISTALLINA DEL FILM CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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Ugello di rivestimento CVD SIC

Ugello di rivestimento CVD SIC

Gli ugelli di rivestimento SIC CVD sono componenti cruciali utilizzati nel processo di epitassia LPE SIC per il deposito di materiali in carburo di silicio durante la produzione di semiconduttori. Questi ugelli sono in genere realizzati in materiale in carburo di silicio ad alta temperatura e chimicamente stabile per garantire la stabilità in ambienti di lavorazione duri. Progettati per una deposizione uniforme, svolgono un ruolo chiave nel controllo della qualità e dell'uniformità degli strati epitassiali coltivati ​​in applicazioni a semiconduttore. Benvenuto la tua ulteriore richiesta.
Protettore di rivestimento CVD SIC

Protettore di rivestimento CVD SIC

La protezione di rivestimento SIC CVD SIC di Vetek Semiconductor utilizzata è l'epitassia LPE SIC, il termine "LPE" di solito si riferisce all'epitassia a bassa pressione (LPE) nella deposizione di vapore chimico a bassa pressione (LPCVD). Nella produzione di semiconduttori, l'LPE è un'importante tecnologia di processo per la crescita di film a singolo cristallo, spesso usati per coltivare strati epitassiali di silicio o altri strati epitassiali a semiconduttore.
Piedistallo rivestito con sic

Piedistallo rivestito con sic

Vetek Semiconductor è professionale nella fabbricazione di rivestimenti SIC CVD, rivestimento TAC su materiale in carburo di grafite e silicio. Forniamo prodotti OEM e ODM come piedistallo rivestito di SIC, trasportatore di wafer, wafer mangatore, vassoio portatore di wafer, disco planetario e così via. Con 1000 gradi puliti e dispositivo di purificazione, possiamo fornire ai prodotti l'impurità al di sotto delle 5pp. Da te presto.
Anello di ingresso del rivestimento SIC

Anello di ingresso del rivestimento SIC

Vetek Semiconductor eccelle nel collaborare a stretto contatto con i clienti per creare design su misura per l'anello di ingresso del rivestimento SIC su misura per esigenze specifiche. Questi anelli di ingresso del rivestimento SIC sono meticolosamente progettati per diverse applicazioni come le attrezzature SIC CVD e l'epitassia in carburo di silicio. Per le soluzioni su misura per l'anello di ingresso del rivestimento SIC, non esitare a contattare Vetek Semiconductor per assistenza personalizzata.
Anello di supporto rivestito in SiC

Anello di supporto rivestito in SiC

Vetek Semiconductor è un produttore e fornitore di porcellane professionisti, producendo principalmente anelli di supporto rivestiti SIC, rivestimenti in carburo di silicio CVD (SIC), rivestimenti in carburo di tantalum (TAC). Ci impegniamo a fornire un supporto tecnico perfetto e soluzioni di prodotto definitive per l'industria dei semiconduttori, benvenuti a contattarci.
Wafer Chuck

Wafer Chuck

Wafer Chunk Uno strumento di bloccaggio del wafer nel processo a semiconduttore ed è ampiamente utilizzato in PVD, CVD, Etch e altri processi. Wafer di semiconduttore VETEK Chuck Play Ruoli fondamentali nella produzione di semiconduttori, consentendo un risultato rapido e di alta qualità. Con la produzione interna, i prezzi competitivi e il solido supporto di ricerca e sviluppo, il semiconduttore Vetek eccelle nei servizi OEM/ODM per componenti di precisione.
Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di silicio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di silicio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
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