Prodotti

Rivestimento in carburo di silicio

VeTek Semiconductor è specializzata nella produzione di prodotti di rivestimento in carburo di silicio ultra puri, questi rivestimenti sono progettati per essere applicati a grafite purificata, ceramica e componenti metallici refrattari.


I nostri rivestimenti ad elevata purezza sono destinati principalmente all'uso nei settori dei semiconduttori e dell'elettronica. Fungono da strato protettivo per supporti wafer, suscettori ed elementi riscaldanti, proteggendoli dagli ambienti corrosivi e reattivi incontrati in processi come MOCVD ed EPI. Questi processi sono parte integrante della lavorazione dei wafer e della produzione dei dispositivi. Inoltre, i nostri rivestimenti sono particolarmente adatti per applicazioni in forni a vuoto e riscaldamento di campioni, dove si incontrano ambienti ad alto vuoto, reattivi e con ossigeno.


Noi di VeTek Semiconductor offriamo una soluzione completa con le nostre capacità avanzate di officina meccanica. Ciò ci consente di produrre i componenti di base utilizzando grafite, ceramica o metalli refrattari e di applicare internamente i rivestimenti ceramici SiC o TaC. Forniamo anche servizi di rivestimento per le parti fornite dai clienti, garantendo flessibilità per soddisfare le diverse esigenze.


I nostri prodotti di rivestimento in carburo di silicio sono ampiamente utilizzati nell'epitassia Si, epitassia SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo di incisione, processo di incisione ICP/PSS, processo di vari tipi di LED, inclusi LED blu e verde, LED UV e UV profondo LED ecc., adattato alle apparecchiature LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e così via.


Parti del reattore che possiamo realizzare:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Il rivestimento in carburo di silicio offre diversi vantaggi esclusivi:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parametro del rivestimento in carburo di silicio di VeTek Semiconductor

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura cristallina FCC fase β policristallina, prevalentemente orientata (111).
Densità del rivestimento SiC 3,21 g/cm³
Rivestimento SiCDurezza Durezza 2500 Vickers (carico 500 g)
Granulometria 2~10μm
Purezza chimica 99,99995%
Capacità termica 640 J·kg-1·K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Resistenza alla flessione 415 MPa RT a 4 punti
Modulo di Young Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conducibilità termica 300W·m-1·K-1
Dilatazione termica (CTE) 4,5×10-6K-1

STRUTTURA CRISTALLINA DEL FILM CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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Anello di tenuta in carburo di silicio

Anello di tenuta in carburo di silicio

Come produttore di prodotti e fabbrica di prodotti di tenuta in carburo di silicio professionale in Cina, l'anello di tenuta in carburo di silicio a semiconduttore Vetek è ampiamente utilizzato nelle apparecchiature di lavorazione dei semiconduttori a causa della sua eccellente resistenza al calore, resistenza alla corrosione, resistenza meccanica e conducibilità termica. È particolarmente adatto per i processi che coinvolgono gas ad alta temperatura e reattivi come CVD, PVD e attacco al plasma ed è una scelta chiave del materiale nel processo di produzione dei semiconduttori. Le tue ulteriori richieste sono benvenute.
Porta wafer rivestito di SIC

Porta wafer rivestito di SIC

Vetek Semiconductor è un produttore professionista e leader dei prodotti per titoli di wafer rivestiti SIC in Cina. Il supporto di wafer rivestito SIC è un supporto di wafer per il processo di epitassia nell'elaborazione dei semiconduttori. È un dispositivo insostituibile che stabilizza il wafer e garantisce la crescita uniforme dello strato epitassiale. Benvenuti alla tua ulteriore consultazione.
Porta del wafer EPI

Porta del wafer EPI

Vetek Semiconductor è un produttore e fabbrica di titoli di wafer EPI professionisti in Cina. Il supporto EPI Wafer è un supporto di wafer per il processo di epitassia nell'elaborazione dei semiconduttori. È uno strumento chiave per stabilizzare il wafer e garantire una crescita uniforme dello strato epitassiale. È ampiamente utilizzato nelle apparecchiature di epitassia come MOCVD e LPCVD. È un dispositivo insostituibile nel processo di epitassia. Benvenuti alla tua ulteriore consultazione.
Vettore di wafer satellitare Aixtron

Vettore di wafer satellitare Aixtron

Il vettore di wafer satellitare Aixtron di Vetek Semiconductor è un portatore di wafer utilizzato nelle apparecchiature Aixtron, utilizzato principalmente nei processi MOCVD ed è particolarmente adatto per processi di elaborazione a semiconduttore ad alta temperatura e ad alta precisione. Il corriere può fornire supporto stabile del wafer e una deposizione uniforme del film durante la crescita epitassiale del MOCVD, che è essenziale per il processo di deposizione dello strato. Benvenuti alla tua ulteriore consultazione.
Reattore Epi SIC HEPIO NEPIO

Reattore Epi SIC HEPIO NEPIO

Vetek Semiconductor è un produttore di prodotti, innovatore e leader del produttore di reattori EPI SIC professionale. Il reattore EPI SIC a mezzamoia LPE è un dispositivo specificamente progettato per produrre strati epitassiali di carburo di silicio di alta qualità (SIC), utilizzato principalmente nel settore dei semiconduttori. Benvenuti nelle tue ulteriori richieste.
Ricevitore Epi con rivestimento SiC

Ricevitore Epi con rivestimento SiC

Vetek Semiconductor è un produttore leader, innovatore di prodotti EPI Susceptor per rivestimento SIC in Cina. Per molti anni ci siamo concentrati su vari prodotti di rivestimento SIC come il suscettore EPI di rivestimento SIC, il rivestimento ALD di rivestimento SIC, ecc. Accolgo la tua ulteriore consultazione.
Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di silicio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di silicio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
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