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Rivestimento in carburo di silicio

VeTek Semiconductor è specializzata nella produzione di prodotti di rivestimento in carburo di silicio ultra puri, questi rivestimenti sono progettati per essere applicati a grafite purificata, ceramica e componenti metallici refrattari.


I nostri rivestimenti ad elevata purezza sono destinati principalmente all'uso nei settori dei semiconduttori e dell'elettronica. Fungono da strato protettivo per supporti wafer, suscettori ed elementi riscaldanti, proteggendoli dagli ambienti corrosivi e reattivi incontrati in processi come MOCVD ed EPI. Questi processi sono parte integrante della lavorazione dei wafer e della produzione dei dispositivi. Inoltre, i nostri rivestimenti sono particolarmente adatti per applicazioni in forni a vuoto e riscaldamento di campioni, dove si incontrano ambienti ad alto vuoto, reattivi e con ossigeno.


Noi di VeTek Semiconductor offriamo una soluzione completa con le nostre capacità avanzate di officina meccanica. Ciò ci consente di produrre i componenti di base utilizzando grafite, ceramica o metalli refrattari e di applicare internamente i rivestimenti ceramici SiC o TaC. Forniamo anche servizi di rivestimento per le parti fornite dai clienti, garantendo flessibilità per soddisfare le diverse esigenze.


I nostri prodotti di rivestimento in carburo di silicio sono ampiamente utilizzati nell'epitassia Si, epitassia SiC, sistema MOCVD, processo RTP/RTA, processo di incisione, processo di incisione ICP/PSS, processo di vari tipi di LED, inclusi LED blu e verde, LED UV e UV profondo LED ecc., adattato alle apparecchiature LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI e così via.


Parti del reattore che possiamo realizzare:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Il rivestimento in carburo di silicio offre diversi vantaggi esclusivi:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



Parametro del rivestimento in carburo di silicio di VeTek Semiconductor

Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura cristallina FCC fase β policristallina, prevalentemente orientata (111).
Densità del rivestimento SiC 3,21 g/cm³
Rivestimento SiCDurezza Durezza 2500 Vickers (carico 500 g)
Granulometria 2~10μm
Purezza chimica 99,99995%
Capacità termica 640 J·kg-1·K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Resistenza alla flessione 415 MPa RT a 4 punti
Modulo di Young Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conducibilità termica 300W·m-1·K-1
Dilatazione termica (CTE) 4,5×10-6K-1

STRUTTURA CRISTALLINA DEL FILM CVD SIC

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



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Riscaldatore di grafite a zona calda

Riscaldatore di grafite a zona calda

Il riscaldatore di grafite di VETEKSEMICON ZONA è progettato per gestire le condizioni estreme in forni ad alta temperatura e mantenere eccellenti prestazioni e stabilità in processi complessi come la deposizione di vapore chimico (CVD), la crescita epitassiale e la ricottura ad alta temperatura. Veteksemicon si concentra sempre sulla produzione e sulla fornitura di riscaldatori di grafite di zone di alta qualità. Ti invitiamo sinceramente a contattarci.
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Riscaldatore Veeco Mocvd

Riscaldatore Veeco Mocvd

Vetek Semiconductor è un produttore leader e fornitore di prodotti di riscaldamento Veeco MOCVD in Cina. Il riscaldatore MOCVD ha un'eccellente purezza chimica, stabilità termica e resistenza alla corrosione. È un prodotto indispensabile nel processo di deposizione di vapore chimico organico metallico (MOCVD). Benvenuti nelle tue ulteriori richieste.
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Veeco Mocvd Providence

Veeco Mocvd Providence

Come produttore leader e fornitore di prodotti Susceptor Veeco Mocvd in Cina, il suscettore MOCVD di Vetek Semiconductor rappresenta l'apice dell'innovazione e dell'eccellenza ingegneristica, appositamente personalizzato per soddisfare i complessi requisiti dei processi di produzione di semiconduttori contemporanei. Benvenuti le tue ulteriori richieste.
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Parte di sigillatura SIC

Parte di sigillatura SIC

Come produttore e fabbrica di prodotti di sigillatura SIC SIC avanzato in Cina. La parte di sigillatura di VETEK semicondutto SIC è un componente di tenuta ad alte prestazioni ampiamente utilizzato nell'elaborazione dei semiconduttori e altri processi estremi di alta temperatura e alta pressione. Benvenuti alla tua ulteriore consultazione.
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Wafer in carburo di silicio Chuck

Wafer in carburo di silicio Chuck

Come produttore leader e fornitore di prodotti Wafer Wafer in carburo di silicio in Cina, Chuck di Wafer in carburo di silicio di Vetek Semiconductor svolge un ruolo insostituibile nel processo di crescita epitassiale con la sua eccellente resistenza ad alta temperatura, resistenza alla corrosione chimica e resistenza alla corrosione termica. Benvenuti alla tua ulteriore consultazione.
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Soffione in carburo di silicio

Soffione in carburo di silicio

La doccia in carburo di silicio ha un'eccellente tolleranza ad alta temperatura, stabilità chimica, conducibilità termica e buone prestazioni di distribuzione del gas, che possono ottenere una distribuzione uniforme del gas e migliorare la qualità del film. Pertanto, viene solitamente utilizzato in processi ad alta temperatura come i processi di deposizione di vapore di vapore chimico (CVD) o di deposizione di vapore fisico (PVD). Accolgo con favore la tua ulteriore consultazione per noi, Vetek Semiconductor.
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Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di silicio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di silicio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
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