Pagaia a sbalzo SiC

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Caratteristiche della pala a sbalzo SiC di VeTek Semiconductor:

Stabilità ad alta temperatura: in grado di mantenere la sua forma e struttura ad alte temperature, adatti a processi di elaborazione ad alta temperatura.

Resistenza alla corrosione: eccellente resistenza alla corrosione a una varietà di sostanze chimiche e gas.

Alta resistenza e rigidità: fornisce supporto affidabile per prevenire deformazioni e danni.

Vantaggi della paletta Sic Cantilever di Vetek Semiconductor:

Alta precisione: un'elevata precisione di elaborazione garantisce un funzionamento stabile nelle apparecchiature automatizzate.

Contaminazione bassa: il materiale SIC ad alta purezza riduce il rischio di contaminazione, che è particolarmente importante per gli ambienti di produzione ultra-puliti.

Alte proprietà meccaniche: in grado di resistere a ambienti di lavoro duri con alte temperature e elevate pressioni.

Applicazioni specifiche della paletta Sic Cantilever e del suo principio di applicazione

Movimentazione dei wafer di silicio nella produzione di semiconduttori:

La paletta SIC a sballo viene utilizzata principalmente per gestire e supportare i wafer di silicio durante la produzione di semiconduttori. Questi processi di solito includono pulizia, attacco, rivestimento e trattamento termico. Principio di applicazione:

Movimentazione dei wafer di silicio: la pala cantilever SiC è progettata per bloccare e spostare in sicurezza i wafer di silicio. Durante i processi ad alta temperatura e di trattamento chimico, l'elevata durezza e resistenza del materiale SiC garantiscono che il wafer di silicio non venga danneggiato o deformato.

Processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD):

Nel processo CVD, la paletta SIC a sballo viene utilizzata per trasportare wafer di silicio in modo che i film sottili possano essere depositati sulle loro superfici. Principio di applicazione:

Nel processo CVD, la paletta SIC cantilever viene utilizzata per fissare il wafer di silicio nella camera di reazione e il precursore gassoso si decompone ad alta temperatura e forma un film sottile sulla superficie del wafer di silicio. La resistenza alla corrosione chimica del materiale SIC garantisce un funzionamento stabile in un ambiente chimico elevato e ad alta temperatura.

Parametro del prodotto della paletta SIC a sballo

Negozi di produzione:

Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori: