Prodotti
Anello di rivestimento in carburo di tantalum
  • Anello di rivestimento in carburo di tantalumAnello di rivestimento in carburo di tantalum

Anello di rivestimento in carburo di tantalum

L'anello di rivestimento in carburo di semiconduttore di Vetek Tantalum è un componente indispensabile nel settore dei semiconduttori, in particolare nell'incisione dei wafer SIC. La sua combinazione di base di grafite e rivestimento TAC garantisce prestazioni superiori in ambienti ad alta temperatura e chimicamente aggressivi. Con la sua stabilità termica migliorata, resistenza alla corrosione e resistenza meccanica, l'anello rivestito in carburo di Tantalum aiuta i produttori di semiconduttori a raggiungere precisione, affidabilità e risultati di alta qualità nei loro processi di produzione.

Processo di incisione sicApplicazione dell'anello di rivestimento in carburo di Tantalum

L'anello di rivestimento in carburo di TantaLum viene utilizzato principalmente nel processo di crescita dei cristalli singoli SIC, una fase essenziale nella produzione di dispositivi a semiconduttore come dispositivi di potenza e dispositivi RF. Il rivestimento in carburo di tantalum (TAC) è un materiale ampiamente utilizzato in applicazioni a semiconduttore ad alte prestazioni grazie alla sua capacità di resistere all'ambiente duro, alte temperature. L'anello di rivestimento in carburo di TantaLum è un processo delicato che richiede componenti in grado di resistere a condizioni difficili mantenendo la precisione e la stabilità.

I ricercatori hanno scoperto che applicando un rivestimento TAC sulla superficie della grafite, potevano migliorare significativamente la sua resistenza all'ossidazione, alla corrosione, all'usura e a migliorare le sue proprietà meccaniche. Questo processo di rivestimento migliora le prestazioni complessive della grafite in ambienti ad alta temperatura e corrosivi.


Ambienti ad alta temperatura e ad alta precisione

L'anello di rivestimento TAC di Vetek Semiconductor è particolarmente utile in ambienti a semiconduttore ad alta temperatura in cui è esposto a temperature elevate e gas reattivi. SuoRivestimento TACLo protegge dagli effetti corrosivi di queste sostanze, mantenendo la sua funzionalità durante il processo di incisione.


Gestione del wafer SIC

L'anello rivestito TAC funge da supporto eccellente e supporto perEc WaferDurante il processo di incisione. La sua misura precisa garantisce che il wafer sia posizionato correttamente, impedendo qualsiasi movimento durante l'attacco che potrebbe causare superfici irregolari o imperfette.


Incisione nella produzione di semiconduttori avanzati

L'anello di rivestimento in carburo di TantaLum svolge un ruolo cruciale nel mantenere la precisione e la qualità richieste nel settore dei semiconduttori, in particolare nella produzione di dispositivi avanzati in cui sia l'integrità del wafer sia la qualità del processo di incisione sono fondamentali. L'anello di rivestimento TAC di alta qualità evita qualche errore nel processo di lavoro.


La longevità dell'anello rivestito TAC è uno dei suoi vantaggi più significativi. Il rivestimento TAC fornisce un ulteriore livello di protezione che estende la vita del componente, anche negli ambienti di incisione dei semiconduttori più duri. Questa ridotta usura non solo si traduce in un minor numero di sostituzioni, ma riduce anche i costi operativi complessivi per i produttori di semiconduttori. Estendendo la durata della vita del componente, l'anello di rivestimento TAC offre una soluzione economica per linee di produzione ad alto volume che richiedono parti affidabili e durevoli.

Come fornitore di spicco e produttore di anello di rivestimento in carburo di Tantalum in Cina, l'anello rivestito a semiconduttore Vetek è un componente altamente specializzato e indispensabile nel settore dei semiconduttori, in particolare nell'incisione di Wafer SiC. Progettato per la durata e la longevità, fornisce un'ottima soluzione per migliorare l'efficienza e ridurre i costi operativi nelle applicazioni di incisione SiC. Vetek Semiconductor spera sinceramente di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina.

ChimicoProprietà del rivestimento TAC

Proprietà chimiche del rivestimento in carburo di Tantalum (TAC)
Tac
B
N O E S Cl Nb N / a

0.4

14 39 0.14 0.29 13 0.87 < 0,05


Proprietà fisiche del rivestimento TAC

PProprietà isicali del rivestimento TAC
Densità di rivestimento TAC
14.3 (g/cm³)
Emissività specifica
0.3
Coefficiente di espansione termica
6.3*10-6/K
TAC Rivestimento della durezza (HK)
2000 HK
Resistenza
1 × 10-5Ohm*cm
Stabilità termica
<2500 ℃
La dimensione della grafite cambia
-10 ~ -20um
Spessore del rivestimento
≥20um Valore tipico (35um ± 10um)

SemiconduttoreNegozi di prodotti per anelli di rivestimento in carburo di tantalum

SiC Coating Graphite substrateTantalum Carbide Coating Ring testSilicon carbide ceramic processingSemiconductor process equipment


Tag caldi: Anello di rivestimento in carburo di tantalum
Invia richiesta
Informazioni di contatto
Per domande sul rivestimento in carburo di silicio, rivestimento in carburo di tantalio, grafite speciale o listino prezzi, lasciaci la tua e-mail e ti contatteremo entro 24 ore.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept