Rivestimento in carburo di tantalio

VeTek semiconductor è un produttore leader di materiali di rivestimento in carburo di tantalio per l'industria dei semiconduttori. La nostra offerta di prodotti principali comprende parti di rivestimento in carburo di tantalio CVD, parti di rivestimento in TaC sinterizzato per la crescita dei cristalli SiC o il processo di epitassia dei semiconduttori. Superato ISO9001, VeTek Semiconductor ha un buon controllo sulla qualità. VeTek Semiconductor si impegna a diventare innovatore nel settore del rivestimento in carburo di tantalio attraverso la ricerca e lo sviluppo continui di tecnologie iterative.

I prodotti principali sonoAnello guida rivestito in TaC, Anello guida a tre petali rivestito in CVD TaC, Mezzaluna rivestita in TaC al carburo di tantalio, Suscettore epitassiale planetario SiC con rivestimento CVD TaC, Anello di rivestimento in carburo di tantalio, Grafite porosa rivestita in carburo di tantalio, Suscettore di rotazione del rivestimento TaC, Anello in carburo di tantalio, Piastra di rotazione del rivestimento TaC, Suscettore wafer rivestito in TaC, Anello deflettore rivestito in TaC, Copertura con rivestimento CVD TaC, Mandrino rivestito in TaCecc., la purezza è inferiore a 5 ppm e può soddisfare le esigenze del cliente.

La grafite con rivestimento TaC viene creata rivestendo la superficie di un substrato di grafite ad elevata purezza con uno strato sottile di carburo di tantalio mediante un processo proprietario di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il vantaggio è mostrato nell'immagine seguente:

Excellent properties of TaC coating graphite

Il rivestimento in carburo di tantalio (TaC) ha attirato l'attenzione grazie al suo elevato punto di fusione fino a 3880°C, all'eccellente resistenza meccanica, durezza e resistenza agli shock termici, che lo rendono un'alternativa interessante ai processi di epitassia composti di semiconduttori con requisiti di temperatura più elevati, come il sistema Aixtron MOCVD e il processo epitassia LPE SiC. Ha anche un'ampia applicazione nel processo di crescita dei cristalli SiC con metodo PVT.

Caratteristiche principali:

●Stabilità della temperatura

●Purezza ultra elevata

●Resistenza a H2, NH3, SiH4,Si

●Resistenza allo stock termico

●Forte adesione alla grafite

●Copertura del rivestimento conforme

● Dimensioni fino a 750 mm di diametro(L'unico produttore in Cina raggiunge queste dimensioni)

Applicazioni:

●Porta-wafer

● Suscettore di riscaldamento induttivo

● Elemento riscaldante resistivo

●Disco satellitare

●Soffione doccia

●Anello guida

●Ricevitore Epi LED

●Ugello di iniezione

●Anello di mascheramento

● Scudo termico

Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità	14,3 (g/cm³)
Emissività specifica	0.3
Coefficiente di dilatazione termica	6.310^-6/K
Durezza (HK)	2000 Hong Kong
Resistenza	1×10^-5Ohm*cm
Stabilità termica	<2500 ℃
La dimensione della grafite cambia	-10~-20um
Spessore del rivestimento	Valore tipico ≥20um (35um±10um)

Dati EDX del rivestimento TaC：

EDX data of TaC coating

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC:

Elemento	Percentuale atomica
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Media
CK	52.10	57.41	52.37	53.96
Loro	47.90	42.59	47.63	46.04

Mandrino con rivestimento TaC Disco planetario con rivestimento TaC
Piastra rivestita in TaC Piastra di rotazione del rivestimento TaC Ricevitore con rivestimento TaC Copertura con rivestimento CVD TaC Anello di rivestimento CVD TaC Piastra di rivestimento TaC

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Tubo di rivestimento TaC

Il tubo di rivestimento TAC di Vetek Semiconductor è un componente chiave per la crescita riuscita di cristalli singoli in carburo di silicio. Con la sua resistenza ad alta temperatura, l'inertezza chimica e le prestazioni eccellenti, che garantiscono la produzione di cristalli di alta qualità con risultati costanti. Fidati delle nostre soluzioni innovative per migliorare il tuo processo di crescita dei cristalli SIC PVT e ottenere risultati eccellenti. Ben per indagare US.

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Parte di ricambio di rivestimento TAC

Il rivestimento TAC è attualmente utilizzato principalmente in processi come la crescita a cristallo singolo in carburo di silicio (metodo PVT), il disco epitassiale (incluso l'epitaxy in carburo di silicio, l'epitassia a LED), ecc. Combinato con la buona stabilità a lungo termine della piastra di rivestimento TAC, la piastra di rivestimento TAC di VETEKSEMICON è diventato il benchmark per le parti in rivestimento TAC. Non vediamo l'ora che tu diventi il nostro partner a lungo termine.

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Gan sul ricevitore EPI

Il suscettore GAN su SIC EPI svolge un ruolo vitale nell'elaborazione dei semiconduttori attraverso la sua eccellente conducibilità termica, capacità di elaborazione ad alta temperatura e stabilità chimica e garantisce l'elevata efficienza e la qualità del materiale del processo di crescita epitassiale del GAN. Vetek Semiconductor è un produttore professionista cinese di GAN sul suscettore SIC Epi, non vediamo l'ora di consultare l'ulteriore consultazione.

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Vettore di rivestimento CVD TAC

Il vettore di rivestimento CVD TAC è progettato principalmente per il processo epitassiale di produzione di semiconduttori. Il punto di fusione ultra-alto del vettore CVD TAC, l'eccellente resistenza alla corrosione e l'eccezionale stabilità termica determinano l'indispensabilità di questo prodotto nel processo epitassiale a semiconduttore. Benvenuto la tua ulteriore richiesta.

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Ricevitore in grafite rivestita in TaC

Il suscettore di grafite rivestito TAC di Vetek Semiconductor utilizza il metodo di deposizione di vapore chimico (CVD) per preparare il rivestimento in carburo di tantalum sulla superficie delle parti di grafite. Questo processo è il più maturo e ha le migliori proprietà di rivestimento. Il suscettore di grafite rivestito TAC può estendere la durata della durata dei componenti di grafite, inibire la migrazione delle impurità della grafite e garantire la qualità dell'epitassia. Non vediamo l'ora di indagare.

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Subser per rivestimento TAC

Vetek Semiconductor presenta il suscettore del rivestimento TAC, con il suo eccezionale rivestimento TAC, questo suscettore offre una moltitudine di vantaggi che lo distinguono dalle soluzioni convenzionali. Integrazione perfettamente nei sistemi esistenti, il suscettore TAC del rivestimento di VETEK garantisce la compatibilità e il funzionamento efficiente. Le sue prestazioni affidabili e il rivestimento TAC di alta qualità offrono costantemente risultati eccezionali nei processi di epitassia SIC. Ci impegniamo a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi e non vediamo l'ora di essere il tuo partner a lungo termine in Cina.

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Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di tantalio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di tantalio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.

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Rivestimento in carburo di tantalio

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Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

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