Rivestimento in carburo di tantalio

VeTek semiconductor è un produttore leader di materiali di rivestimento in carburo di tantalio per l'industria dei semiconduttori. La nostra offerta di prodotti principali comprende parti di rivestimento in carburo di tantalio CVD, parti di rivestimento in TaC sinterizzato per la crescita dei cristalli SiC o il processo di epitassia dei semiconduttori. Superato ISO9001, VeTek Semiconductor ha un buon controllo sulla qualità. VeTek Semiconductor si impegna a diventare innovatore nel settore del rivestimento in carburo di tantalio attraverso la ricerca e lo sviluppo continui di tecnologie iterative.

I prodotti principali sonoAnello guida rivestito in TaC, Anello guida a tre petali rivestito in CVD TaC, Mezzaluna rivestita in TaC al carburo di tantalio, Suscettore epitassiale planetario SiC con rivestimento CVD TaC, Anello di rivestimento in carburo di tantalio, Grafite porosa rivestita in carburo di tantalio, Suscettore di rotazione del rivestimento TaC, Anello in carburo di tantalio, Piastra di rotazione del rivestimento TaC, Suscettore wafer rivestito in TaC, Anello deflettore rivestito in TaC, Copertura con rivestimento CVD TaC, Mandrino rivestito in TaCecc., la purezza è inferiore a 5 ppm e può soddisfare le esigenze del cliente.

La grafite con rivestimento TaC viene creata rivestendo la superficie di un substrato di grafite ad elevata purezza con uno strato sottile di carburo di tantalio mediante un processo proprietario di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il vantaggio è mostrato nell'immagine seguente:

Excellent properties of TaC coating graphite

Il rivestimento in carburo di tantalio (TaC) ha attirato l'attenzione grazie al suo elevato punto di fusione fino a 3880°C, all'eccellente resistenza meccanica, durezza e resistenza agli shock termici, che lo rendono un'alternativa interessante ai processi di epitassia composti di semiconduttori con requisiti di temperatura più elevati, come il sistema Aixtron MOCVD e il processo epitassia LPE SiC. Ha anche un'ampia applicazione nel processo di crescita dei cristalli SiC con metodo PVT.

Caratteristiche principali:

●Stabilità della temperatura

●Purezza ultra elevata

●Resistenza a H2, NH3, SiH4,Si

●Resistenza allo stock termico

●Forte adesione alla grafite

●Copertura del rivestimento conforme

● Dimensioni fino a 750 mm di diametro(L'unico produttore in Cina raggiunge queste dimensioni)

Applicazioni:

●Porta-wafer

● Suscettore di riscaldamento induttivo

● Elemento riscaldante resistivo

●Disco satellitare

●Soffione doccia

●Anello guida

●Ricevitore Epi LED

●Ugello di iniezione

●Anello di mascheramento

● Scudo termico

Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità	14,3 (g/cm³)
Emissività specifica	0.3
Coefficiente di dilatazione termica	6.310^-6/K
Durezza (HK)	2000 Hong Kong
Resistenza	1×10^-5Ohm*cm
Stabilità termica	<2500 ℃
La dimensione della grafite cambia	-10~-20um
Spessore del rivestimento	Valore tipico ≥20um (35um±10um)

Dati EDX del rivestimento TaC：

EDX data of TaC coating

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC:

Elemento	Percentuale atomica
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Media
CK	52.10	57.41	52.37	53.96
Loro	47.90	42.59	47.63	46.04

Mandrino con rivestimento TaC Disco planetario con rivestimento TaC
Piastra rivestita in TaC Piastra di rotazione del rivestimento TaC Ricevitore con rivestimento TaC Copertura con rivestimento CVD TaC Anello di rivestimento CVD TaC Piastra di rivestimento TaC

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Suscettore di rotazione del rivestimento TaC

In qualità di produttore professionale, innovatore e leader di prodotti suscettori di rotazione del rivestimento TaC in Cina. Il suscettore di rotazione del rivestimento TaC di VeTek Semiconductor viene solitamente installato in apparecchiature di deposizione chimica in fase vapore (CVD) e di epitassia a fascio molecolare (MBE) per supportare e ruotare i wafer per garantire una deposizione uniforme del materiale e una reazione efficiente. È un componente chiave nella lavorazione dei semiconduttori. Accolga favorevolmente la vostra ulteriore consultazione.

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Crogiolo di rivestimento CVD TaC

VeTek Semiconductor è un produttore professionale e leader di prodotti per crogioli di rivestimento CVD TaC in Cina. Il crogiolo con rivestimento CVD TaC è basato sul rivestimento in tantalio carbonio (TaC). Il rivestimento in tantalio di carbonio viene ricoperto uniformemente sulla superficie del crogiolo attraverso il processo di deposizione chimica in fase vapore (CVD) per migliorarne la resistenza al calore e alla corrosione. È uno strumento materiale utilizzato appositamente in ambienti estremi ad alta temperatura. Accolga favorevolmente la vostra ulteriore consultazione.

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CVD TAC Coating Wafer Carrier

Come produttore di prodotti e fabbrica di prodotti per venti di wafer di rivestimento CVD professionale in Cina, Vetek Semiconductor CVD TAC Coating Wafer Carrier è uno strumento di trasporto di wafer appositamente progettato per ambienti ad alta temperatura e corrosivi nella produzione di semiconduttori. e CVD TAC Coating Wafer Carrier ha un'elevata resistenza meccanica, un'eccellente resistenza alla corrosione e stabilità termica, fornendo la garanzia necessaria per la produzione di dispositivi a semiconduttore di alta qualità. Le tue ulteriori richieste sono benvenute.

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Riscaldatore di rivestimento TAC

Il riscaldatore di rivestimento TaC di VeTek Semiconductor ha un punto di fusione estremamente elevato (circa 3880°C). L'elevato punto di fusione gli consente di operare a temperature estremamente elevate, in particolare nella crescita di strati epitassiali di nitruro di gallio (GaN) nel processo di deposizione chimica da fase vapore di metallo organico (MOCVD). VeTek Semiconductor si impegna a fornire ai clienti soluzioni di prodotti personalizzati. Non vediamo l'ora di sentire la tua opinione.

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Rivestimento TAC CVD

Vetek Semiconductor è il produttore di prodotti per rivestimento TAC CVD leader in Cina. Per molti anni, ci siamo concentrati su vari prodotti di rivestimento TAC CVD come la copertura del rivestimento CVD TAC, l'anello di rivestimento CVD TAC. Vetek Semiconductor supporta servizi di prodotto personalizzati e prezzi soddisfacenti dei prodotti e attende con impazienza la tua ulteriore consultazione.

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Chuck rivestito tac

Con la sua resistenza ad alta temperatura, l'inertezza chimica e le prestazioni eccellenti, i manichini rivestiti TAC di Vetek Semiconductor sono progettati per forni a semiconduttori. Riteniamo che i nostri prodotti possano offrirti soluzioni avanzate di tecnologia e prodotti di qualità.

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Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di tantalio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di tantalio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.

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Rivestimento in carburo di tantalio

Caratteristiche principali:

Applicazioni:

Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Dati EDX del rivestimento TaC：

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC:

Suscettore di rotazione del rivestimento TaC

Crogiolo di rivestimento CVD TaC

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