Rivestimento in carburo di tantalio

VeTek semiconductor è un produttore leader di materiali di rivestimento in carburo di tantalio per l'industria dei semiconduttori. La nostra offerta di prodotti principali comprende parti di rivestimento in carburo di tantalio CVD, parti di rivestimento in TaC sinterizzato per la crescita dei cristalli SiC o il processo di epitassia dei semiconduttori. Superato ISO9001, VeTek Semiconductor ha un buon controllo sulla qualità. VeTek Semiconductor si impegna a diventare innovatore nel settore del rivestimento in carburo di tantalio attraverso la ricerca e lo sviluppo continui di tecnologie iterative.

I prodotti principali sonoAnello guida rivestito in TaC, Anello guida a tre petali rivestito in CVD TaC, Mezzaluna rivestita in TaC al carburo di tantalio, Suscettore epitassiale planetario SiC con rivestimento CVD TaC, Anello di rivestimento in carburo di tantalio, Grafite porosa rivestita in carburo di tantalio, Suscettore di rotazione del rivestimento TaC, Anello in carburo di tantalio, Piastra di rotazione del rivestimento TaC, Suscettore wafer rivestito in TaC, Anello deflettore rivestito in TaC, Copertura con rivestimento CVD TaC, Mandrino rivestito in TaCecc., la purezza è inferiore a 5 ppm e può soddisfare le esigenze del cliente.

La grafite con rivestimento TaC viene creata rivestendo la superficie di un substrato di grafite ad elevata purezza con uno strato sottile di carburo di tantalio mediante un processo proprietario di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il vantaggio è mostrato nell'immagine seguente:

Excellent properties of TaC coating graphite

Il rivestimento in carburo di tantalio (TaC) ha attirato l'attenzione grazie al suo elevato punto di fusione fino a 3880°C, all'eccellente resistenza meccanica, durezza e resistenza agli shock termici, che lo rendono un'alternativa interessante ai processi di epitassia composti di semiconduttori con requisiti di temperatura più elevati, come il sistema Aixtron MOCVD e il processo epitassia LPE SiC. Ha anche un'ampia applicazione nel processo di crescita dei cristalli SiC con metodo PVT.

Caratteristiche principali:

●Stabilità della temperatura

●Purezza ultra elevata

●Resistenza a H2, NH3, SiH4,Si

●Resistenza allo stock termico

●Forte adesione alla grafite

●Copertura del rivestimento conforme

● Dimensioni fino a 750 mm di diametro(L'unico produttore in Cina raggiunge queste dimensioni)

Applicazioni:

●Porta-wafer

● Suscettore di riscaldamento induttivo

● Elemento riscaldante resistivo

●Disco satellitare

●Soffione doccia

●Anello guida

●Ricevitore Epi LED

●Ugello di iniezione

●Anello di mascheramento

● Scudo termico

Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità	14,3 (g/cm³)
Emissività specifica	0.3
Coefficiente di dilatazione termica	6.310^-6/K
Durezza (HK)	2000 Hong Kong
Resistenza	1×10^-5Ohm*cm
Stabilità termica	<2500 ℃
La dimensione della grafite cambia	-10~-20um
Spessore del rivestimento	Valore tipico ≥20um (35um±10um)

Dati EDX del rivestimento TaC：

EDX data of TaC coating

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC:

Elemento	Percentuale atomica
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Media
CK	52.10	57.41	52.37	53.96
Loro	47.90	42.59	47.63	46.04

Mandrino con rivestimento TaC Disco planetario con rivestimento TaC
Piastra rivestita in TaC Piastra di rotazione del rivestimento TaC Ricevitore con rivestimento TaC Copertura con rivestimento CVD TaC Anello di rivestimento CVD TaC Piastra di rivestimento TaC

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Anello di rivestimento CVD TAC

Nell'industria dei semiconduttori, l'anello di rivestimento CVD TAC è un componente altamente vantaggioso progettato per soddisfare i requisiti impegnativi dei processi di crescita del cristallo di carburo di silicio (SIC). L'anello di rivestimento TAC CVD TAC di Vetek Semiconductor offre una resistenza eccezionale ad alta temperatura e inerzia chimica, rendendola una scelta ideale per gli ambienti caratterizzati da temperature elevate e condizioni corrosive. Ci impegniamo a creare una produzione efficiente di accessori a cristallo singolo in carburo di silicio. Pls non esitate a contattarci per ulteriori domande.

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Mezzalmo epi di lpe siic

LPE SIC EPI Halfmoon è un design speciale per la fornace epitassia orizzonazionale, un prodotto rivoluzionario progettato per elevare i processi di epitassia SIC del reattore del reattore LPE. Questa soluzione all'avanguardia vanta diverse caratteristiche chiave che garantiscono prestazioni e efficienza superiori durante le operazioni di produzione. VETEK Semiconductor è professionale nella produzione di mezzamola EPI LPE SIC in 6 pollici, 8 pollici.

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EPI a LED

Vetek Semiconductor è un fornitore leader di rivestimenti TAC e parti di grafite di rivestimento SIC. Siamo specializzati nella produzione di suscettori EPI LED all'avanguardia, essenziali per i processi di epitassia a LED. In attesa della tua ulteriore consultazione.

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Suscettore MOCVD con rivestimento TaC

Vetek Semiconductor è un fornitore completo coinvolto nella ricerca, sviluppo, produzione, progettazione e vendite di rivestimenti TAC e parti di rivestimento SIC. La nostra competenza risiede nella produzione di suscitatore MOCVD all'avanguardia con il rivestimento TAC, che svolgono un ruolo vitale nel processo di epitassia LED. Ti diamo il benvenuto a discutere con noi richieste e ulteriori informazioni.

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Suscettore LED UV profondo rivestito in TaC

Il rivestimento TAC è uno sviluppo di rivestimenti di nuova generazione per l'ambiente duro. VETEK Semiconductor è un fornitore integrato impegnato in ricerca e sviluppo, produzione, progettazione e vendite di rivestimenti TAC. Siamo specializzati nella produzione di suscettori a LED UV rivestiti TAC, che sono componenti cruciali nel processo di epitassia a LED. Il nostro suscettore LED UV con rivestimento TAC offre un'elevata conducibilità termica, un'elevata resistenza meccanica, una migliore efficienza di produzione e una protezione del wafer epitassiale. Benvenuti in Inquiry Us.

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Mezzalmo rivestito in carburo di tantalum

Parti di mezzamoia rivestite con rivestimento CVD TAC, sono più durevoli rispetto alle parti a mezzamoia rivestite SIC. Il semiconduttore VETEK è il produttore e il fornitore leader in Cina per la mezzamoia rivestita in carburo di Tantalum TAC, siamo specializzati in R&S e produzione, possiamo controllare il pozzetto di qualità e offrire un pozzo di qualità competitivo prezzo. Sei invitato a visitare la nostra fabbrica per ulteriori discussioni su una cooperazione a lungo termine.

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Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di tantalio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di tantalio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.

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Rivestimento in carburo di tantalio

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Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Dati EDX del rivestimento TaC：

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