Rivestimento in carburo di tantalio

VeTek semiconductor è un produttore leader di materiali di rivestimento in carburo di tantalio per l'industria dei semiconduttori. La nostra offerta di prodotti principali comprende parti di rivestimento in carburo di tantalio CVD, parti di rivestimento in TaC sinterizzato per la crescita dei cristalli SiC o il processo di epitassia dei semiconduttori. Superato ISO9001, VeTek Semiconductor ha un buon controllo sulla qualità. VeTek Semiconductor si impegna a diventare innovatore nel settore del rivestimento in carburo di tantalio attraverso la ricerca e lo sviluppo continui di tecnologie iterative.

I prodotti principali sonoAnello guida rivestito in TaC, Anello guida a tre petali rivestito in CVD TaC, Mezzaluna rivestita in TaC al carburo di tantalio, Suscettore epitassiale planetario SiC con rivestimento CVD TaC, Anello di rivestimento in carburo di tantalio, Grafite porosa rivestita in carburo di tantalio, Suscettore di rotazione del rivestimento TaC, Anello in carburo di tantalio, Piastra di rotazione del rivestimento TaC, Suscettore wafer rivestito in TaC, Anello deflettore rivestito in TaC, Copertura con rivestimento CVD TaC, Mandrino rivestito in TaCecc., la purezza è inferiore a 5 ppm e può soddisfare le esigenze del cliente.

La grafite con rivestimento TaC viene creata rivestendo la superficie di un substrato di grafite ad elevata purezza con uno strato sottile di carburo di tantalio mediante un processo proprietario di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il vantaggio è mostrato nell'immagine seguente:

Excellent properties of TaC coating graphite

Il rivestimento in carburo di tantalio (TaC) ha attirato l'attenzione grazie al suo elevato punto di fusione fino a 3880°C, all'eccellente resistenza meccanica, durezza e resistenza agli shock termici, che lo rendono un'alternativa interessante ai processi di epitassia composti di semiconduttori con requisiti di temperatura più elevati, come il sistema Aixtron MOCVD e il processo epitassia LPE SiC. Ha anche un'ampia applicazione nel processo di crescita dei cristalli SiC con metodo PVT.

Caratteristiche principali:

●Stabilità della temperatura

●Purezza ultra elevata

●Resistenza a H2, NH3, SiH4,Si

●Resistenza allo stock termico

●Forte adesione alla grafite

●Copertura del rivestimento conforme

● Dimensioni fino a 750 mm di diametro(L'unico produttore in Cina raggiunge queste dimensioni)

Applicazioni:

●Porta-wafer

● Suscettore di riscaldamento induttivo

● Elemento riscaldante resistivo

●Disco satellitare

●Soffione doccia

●Anello guida

●Ricevitore Epi LED

●Ugello di iniezione

●Anello di mascheramento

● Scudo termico

Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità	14,3 (g/cm³)
Emissività specifica	0.3
Coefficiente di dilatazione termica	6.310^-6/K
Durezza (HK)	2000 Hong Kong
Resistenza	1×10^-5Ohm*cm
Stabilità termica	<2500 ℃
La dimensione della grafite cambia	-10~-20um
Spessore del rivestimento	Valore tipico ≥20um (35um±10um)

Dati EDX del rivestimento TaC：

EDX data of TaC coating

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC:

Elemento	Percentuale atomica
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Media
CK	52.10	57.41	52.37	53.96
Loro	47.90	42.59	47.63	46.04

Mandrino con rivestimento TaC Disco planetario con rivestimento TaC
Piastra rivestita in TaC Piastra di rotazione del rivestimento TaC Ricevitore con rivestimento TaC Copertura con rivestimento CVD TaC Anello di rivestimento CVD TaC Piastra di rivestimento TaC

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Anello rivestito in carburo di tantalum

Come innovatore professionista e leader dei prodotti ad anello rivestito in carburo di Tantalum in Cina, l'anello rivestito in carburo di Tantalum in carburo di VETEK, svolge un ruolo insostituibile nella crescita dei cristalli SIC con la sua eccellente resistenza ad alta temperatura, resistenza all'usura e eccellente conduttività termica. Benvenuti alla tua ulteriore consultazione.

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Carburo di tantalum poroso

Vetek Semiconductor è un produttore professionista e leader dei prodotti porosi in carburo di Tantalum in Cina. Il carburo di tantalum poroso è generalmente prodotto con il metodo di deposizione di vapore chimico (CVD), garantendo un controllo preciso della sua dimensione e distribuzione dei pori ed è uno strumento di materiale dedicato ad ambienti estremi di alta temperatura. Benvenuti alla tua ulteriore consultazione.

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Anello guida rivestimento TaC

L'anello guida del rivestimento TaC di VeTek Semiconductor viene creato applicando un rivestimento in carburo di tantalio su parti in grafite utilizzando una tecnica altamente avanzata chiamata deposizione chimica da fase vapore (CVD). Questo metodo è ben consolidato e offre proprietà di rivestimento eccezionali. Utilizzando l'anello guida del rivestimento TaC, la durata dei componenti di grafite può essere notevolmente estesa, il movimento delle impurità di grafite può essere soppresso e la qualità del singolo cristallo SiC e AIN può essere mantenuta in modo affidabile. Benvenuti a contattarci.

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Anello di carburo di tantalum

Come produttore avanzato e produttore di prodotti ad anello in carburo di Tantalum in Cina, l'anello in carburo di VantaLum Vetek ha una durezza estremamente elevata, resistenza all'usura, resistenza all'alta temperatura e stabilità chimica ed è ampiamente utilizzato nel campo di produzione di semiconduttori. Soprattutto in CVD, PVD, processo di impianto ionico, processo di incisione e trasporto e trasporto di wafer, è un prodotto indispensabile per la lavorazione e la produzione di semiconduttori. In attesa della tua ulteriore consultazione.

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Supporto per rivestimento in carburo di tantalio

In qualità di produttore professionale di prodotti di supporto per rivestimento in carburo di tantalio e fabbrica in Cina, il supporto per rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor viene solitamente utilizzato per il rivestimento superficiale di componenti strutturali o componenti di supporto in apparecchiature a semiconduttori, in particolare per la protezione superficiale di componenti chiave di apparecchiature nei processi di produzione di semiconduttori come CVD e PVD. Accolga favorevolmente la vostra ulteriore consultazione.

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Anello di guida in carburo di tantalum

Vetek Semiconductor è un produttore professionista e leader dei prodotti anelli di guida in carburo di Tantalum in Cina. Il nostro anello guida TantaLum Carbide (TAC) è un componente ad alta prestazione realizzato in carburo di tantalum, che è comunemente usato nelle apparecchiature di elaborazione a semiconduttore, specialmente in ambienti ad alta temperatura e altamente corrosivi come CVD, PVD, incisione e diffusione. Vetek Semiconductor si impegna a fornire soluzioni avanzate di tecnologia e prodotto per l'industria dei semiconduttori e accoglie con favore le tue ulteriori indagini.

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Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di tantalio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di tantalio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.

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Rivestimento in carburo di tantalio

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Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Dati EDX del rivestimento TaC：

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