Rivestimento in carburo di tantalio

VeTek semiconductor è un produttore leader di materiali di rivestimento in carburo di tantalio per l'industria dei semiconduttori. La nostra offerta di prodotti principali comprende parti di rivestimento in carburo di tantalio CVD, parti di rivestimento in TaC sinterizzato per la crescita dei cristalli SiC o il processo di epitassia dei semiconduttori. Superato ISO9001, VeTek Semiconductor ha un buon controllo sulla qualità. VeTek Semiconductor si impegna a diventare innovatore nel settore del rivestimento in carburo di tantalio attraverso la ricerca e lo sviluppo continui di tecnologie iterative.

I prodotti principali sonoAnello guida rivestito in TaC, Anello guida a tre petali rivestito in CVD TaC, Mezzaluna rivestita in TaC al carburo di tantalio, Suscettore epitassiale planetario SiC con rivestimento CVD TaC, Anello di rivestimento in carburo di tantalio, Grafite porosa rivestita in carburo di tantalio, Suscettore di rotazione del rivestimento TaC, Anello in carburo di tantalio, Piastra di rotazione del rivestimento TaC, Suscettore wafer rivestito in TaC, Anello deflettore rivestito in TaC, Copertura con rivestimento CVD TaC, Mandrino rivestito in TaCecc., la purezza è inferiore a 5 ppm e può soddisfare le esigenze del cliente.

La grafite con rivestimento TaC viene creata rivestendo la superficie di un substrato di grafite ad elevata purezza con uno strato sottile di carburo di tantalio mediante un processo proprietario di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il vantaggio è mostrato nell'immagine seguente:

Excellent properties of TaC coating graphite

Il rivestimento in carburo di tantalio (TaC) ha attirato l'attenzione grazie al suo elevato punto di fusione fino a 3880°C, all'eccellente resistenza meccanica, durezza e resistenza agli shock termici, che lo rendono un'alternativa interessante ai processi di epitassia composti di semiconduttori con requisiti di temperatura più elevati, come il sistema Aixtron MOCVD e il processo epitassia LPE SiC. Ha anche un'ampia applicazione nel processo di crescita dei cristalli SiC con metodo PVT.

Caratteristiche principali:

●Stabilità della temperatura

●Purezza ultra elevata

●Resistenza a H2, NH3, SiH4,Si

●Resistenza allo stock termico

●Forte adesione alla grafite

●Copertura del rivestimento conforme

● Dimensioni fino a 750 mm di diametro(L'unico produttore in Cina raggiunge queste dimensioni)

Applicazioni:

●Porta-wafer

● Suscettore di riscaldamento induttivo

● Elemento riscaldante resistivo

●Disco satellitare

●Soffione doccia

●Anello guida

●Ricevitore Epi LED

●Ugello di iniezione

●Anello di mascheramento

● Scudo termico

Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità	14,3 (g/cm³)
Emissività specifica	0.3
Coefficiente di dilatazione termica	6.310^-6/K
Durezza (HK)	2000 Hong Kong
Resistenza	1×10^-5Ohm*cm
Stabilità termica	<2500 ℃
La dimensione della grafite cambia	-10~-20um
Spessore del rivestimento	Valore tipico ≥20um (35um±10um)

Dati EDX del rivestimento TaC：

EDX data of TaC coating

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC:

Elemento	Percentuale atomica
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Media
CK	52.10	57.41	52.37	53.96
Loro	47.90	42.59	47.63	46.04

Mandrino con rivestimento TaC Disco planetario con rivestimento TaC
Piastra rivestita in TaC Piastra di rotazione del rivestimento TaC Ricevitore con rivestimento TaC Copertura con rivestimento CVD TaC Anello di rivestimento CVD TaC Piastra di rivestimento TaC

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Grafite porosa con tac rivestito

La grafite porosa con TAC rivestito è un materiale di elaborazione a semiconduttore avanzato fornito da Vetek Semiconductor. La grafite porosa con rivestimento TAC combina i vantaggi del rivestimento poroso di grafite e tantalum (TAC), con buona conduttività termica e permeabilità al gas. Vetek Semiconductor si impegna a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi.

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Copertura del rivestimento in carburo di tantalum

La copertura del rivestimento in carburo di Tantalum è composta da grafite di alta purezza e rivestimento TAC. Vetek Semiconductor è un fornitore e produttore leader di copertura di rivestimento in carburo di Tantalum in Cina. Ci concentriamo sulla fornitura di prodotti in carburo di tantalum resistenti ad alta purezza e ad alta temperatura. La nostra copertura rivestita in carburo di Tantalum ha prestazioni e affidabilità eccellenti e può proteggere efficacemente i materiali in ambienti estremamente elevati e corrosivi. Non vediamo l'ora di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina. Benvenuti per consultare in qualsiasi momento.

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Anello deflettore rivestito

L'anello deflettore rivestito TAC di Vetek Semiconductor è un componente altamente specializzato progettato per i processi di crescita dei cristalli SIC. Il rivestimento TAC fornisce un'eccellente resistenza ad alta temperatura e inerzia chimica per far fronte alle alte temperature e agli ambienti corrosivi durante il processo di crescita dei cristalli. Ciò garantisce prestazioni stabili e lunga durata del componente, riducendo la frequenza di sostituzione e tempi di inattività. Ci impegniamo a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi e non vediamo l'ora di essere il tuo partner a lungo termine in Cina. Ben per consultare in qualsiasi momento.

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Tubo rivestito in carburo di tantalum per crescita cristallina

Il tubo rivestito in carburo di Tantalum per la crescita dei cristalli viene utilizzato principalmente nel processo di crescita dei cristalli SIC. Vetek Semiconductor ha fornito un tubo rivestito in carburo di Tantalum per la crescita dei cristalli per molti anni e ha lavorato nel campo del rivestimento TAC per molti anni. I nostri prodotti hanno un'alta purezza e una resistenza ad alta temperatura. Non vediamo l'ora di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina. Sentiti libero di chiederci.

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Anello rivestito TAC per reattore epitassiale SIC

Vetek Semiconductor è un produttore leader e innovatore tecnologico dell'anello rivestito TAC per il reattore epitassiale SIC in Cina, concentrandosi sulla fornitura di soluzioni ad alte prestazioni per i reattori epitassiali SIC. Abbiamo molti anni di esperienza nella tecnologia di rivestimento TAC. L'anello rivestito TAC ha le caratteristiche di elevata purezza, elevata stabilità, eccellente resistenza alla corrosione, ecc. E può fornire prestazioni stabili a lungo termine nell'ambiente di lavoro duro dei reattori epitassiali. Non vediamo l'ora di stabilire con te una partnership strategica a lungo termine.

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Parte a mezzaluna rivestita in carburo di tantalio per LPE

VeTek Semiconductor è un fornitore leader di componenti Halfmoon rivestiti in carburo di tantalio per LPE in Cina, specializzato da molti anni sulla tecnologia di rivestimento TaC. La nostra parte a mezzaluna rivestita in carburo di tantalio per LPE è progettata per il processo di epitassia in fase liquida e può resistere a temperature elevate di oltre 2000 gradi Celsius. Grazie alle eccellenti prestazioni dei materiali e all'innovazione dei processi, la durata dei nostri prodotti è ai massimi livelli del settore. VeTek Semiconductor non vede l'ora di essere il vostro partner a lungo termine in Cina.

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Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di tantalio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di tantalio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.

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Rivestimento in carburo di tantalio

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Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Dati EDX del rivestimento TaC：

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC:

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