Mezzamoon ultra puro di grafite inferiore

Vetek Semiconductor è un produttore professionista dedicato alla fornitura di mezzamoon ultra di grafite ultra pura. I nostri prodotti a mezzamoia inferiore a grafite ultra pura sono specificamente progettati per camere epitassiali SIC e offrono prestazioni e compatibilità superiori con vari modelli di apparecchiature.

Caratteristiche:

Collegamento: la mezzallieva inferiore di grafite Ultra pura a semiconduttore Vetek è progettata per connettersi con tubi al quarzo, facilitando il flusso di gas per guidare la rotazione della base portante.

Controllo della temperatura: il prodotto consente il controllo della temperatura, garantendo condizioni ottimali all'interno della camera di reazione.

Design senza contatto: installato all'interno della camera di reazione, la nostra mezzamoia inferiore a grafite ultra pura non contatta direttamente i wafer, garantendo l'integrità del processo.

Scenario dell'applicazione:

La nostra mezzallieva inferiore di grafite ultra pura funge da componente critico nelle camere epitassiali SIC, dove aiuta a mantenere contenuti di impurità inferiori a 5 ppm. Monitorando da vicino parametri come lo spessore e l'uniformità della concentrazione del doping, garantiamo gli strati epitassiali di altissima qualità.

Compatibilità:

Il mezzaluna inferiore di grafite Ultra puro di Vetek Semiconductor è compatibile con una vasta gamma di modelli di attrezzature, tra cui LPE, Naura, JSG, CETC, NASO Tech e così via.

Ti invitiamo a visitare la nostra fabbrica in Cina per esplorare in prima persona la nostra mezzaluna di grafite ultra pura di alta qualità.

Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD:

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Panoramica della catena dell'industria dell'epitassia del chip a semiconduttore: