Prodotti
Wafer di nitruro di alluminio (AlN).
  • Wafer di nitruro di alluminio (AlN).Wafer di nitruro di alluminio (AlN).

Wafer di nitruro di alluminio (AlN).

VeTek Semiconductor fornisce wafer e substrati monocristallini di nitruro di alluminio (AlN) di alta qualità per dispositivi semiconduttori a banda proibita ultralarga di prossima generazione. Con un bandgap ultra ampio di circa 6,2 eV, un'eccezionale conduttività termica, un eccezionale isolamento elettrico e un eccellente adattamento del reticolo e dell'espansione termica con GaN, i wafer AlN sono ideali per dispositivi RF ad alta potenza, elettronica di potenza ad alta tensione e optoelettronica per ultravioletti profondi (DUV).


1. Caratteristiche principali e vantaggi

• Bandgap ultra ampio ≈ 6,2 eV: il più alto tra i materiali semiconduttori tradizionali

• Elevata conduttività termica ≈ 320 W/m·K per un'efficiente dissipazione del calore

• Eccellente isolamento elettrico (>10¹³ Ω·cm) ed elevato campo di rottura (12–15 MV/cm)

• Buon reticolo e abbinamento di espansione termica con GaN: ideale per eterostrutture GaN su AlN

• Opzioni a bassa densità di dislocazione con stretto controllo della curva di oscillazione HR-XRD

• Al-face CMP (Ra ≤ 0,5 nm) e N-face MP per superfici epi-ready

• Molteplici dimensioni e gradi di qualità (P / R / D) per soddisfare le esigenze di produzione e ricerca

2. Applicazioni tipiche

• Dispositivi RF ad alta potenza per comunicazioni radar e 6G

• Elettronica di potenza ad alta tensione per reti, data center e veicoli elettrici

• LED e diodi laser nell'ultravioletto profondo (UVC).

• Crescita epitassiale GaN-su-AlN e dispositivi eterostrutturati avanzati

• Componenti semiconduttori ad alta temperatura, alta frequenza e ambienti difficili

3. Taglie disponibili e gradi di qualità

VeTek offre wafer AlN nei seguenti formati standard. Dimensioni e specifiche personalizzate possono essere discusse su richiesta.

• Substrati quadrati 10×10 mm

• Wafer da 1 pollice (25,4 mm).

• Wafer da 2 pollici (50,8 mm).

Gradi di qualità: grado P (prodotto), grado R (ricerca), grado D (sperimentale), differenziati principalmente dalla curva di oscillazione FWHM HR-XRD e dalla qualità complessiva dei cristalli.

4. Specifiche tecniche principali

Parametri comuni a tutte le taglie (valori tipici; dipendenti dal grado dove indicato):

Parametro

Grado P

Grado R

Grado D

Orientamento

(0001) ± 0,5°

Spessore

450 μm ± 25 μm

HR-XRD FWHM (002)

≤ 100 secondi d'arco

≤ 200 secondi d'arco

≤ 300 secondi d'arco

HR-XRD FWHM (102)

≤ 80 secondi d'arco

≤ 150 secondi d'arco

≤ 250 secondi d'arco

Lucidatura superficiale

Al-faccia CMP, N-faccia MP

Rugosità superficiale Ra

Al ≤ 0,5 nm; N ≤ 1,2 μm

Graffi/scheggiature (occhio nudo)

Nessuno

Esclusione dei bordi

1 millimetro

Confezione

Scatola per wafer singolo

Tolleranze geometriche specifiche per dimensione:

• 10×10 mm: Lunghezza lato 10 mm ± 0,5 mm; TTV ≤ 15μm; Arco ≤ 15 μm

• 1 pollice: diametro 25,4 mm ± 0,5 mm; Area utilizzabile ≥ 90%; TTV ≤ 20μm; Arco ≤ 20 μm; Piatto primario (10-10) ± 5°, lunghezza 8 mm ± 1 millimetro

• 2 pollici: diametro 50,8 mm ± 0,5 mm; Area utilizzabile ≥ 90%; TTV ≤ 30μm; Arco ≤ 30 μm; Lunghezza piatto primario 16 mm ± 2 mm

5. Perché scegliere i wafer VeTek AlN?

In qualità di fornitore specializzato di materiali e componenti semiconduttori avanzati, VeTek Semiconductor fornisce:

• Wafer monocristallino AlN di alta qualità con qualità dei cristalli controllata e superfici epi-ready

• Molteplici opzioni di dimensioni e qualità per supportare sia la produzione di dispositivi che i programmi di ricerca

• Soluzioni complementari di wafer e substrati nel portafoglio di materiali semiconduttori VeTek

• Supporto tecnico per la selezione dei materiali e l'abbinamento dei processi

I nostri wafer AlN aiutano i clienti ad accelerare lo sviluppo di dispositivi optoelettronici RF ad alta potenza, ad alta tensione e UV profondo che richiedono la combinazione unica di bandgap ultra ampio, elevata conduttività termica e compatibilità GaN offerta dal nitruro di alluminio.


Invia richiesta
Informazioni di contatto
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
Utilizziamo i cookie per offrirti una migliore esperienza di navigazione, analizzare il traffico del sito e personalizzare i contenuti. Utilizzando questo sito, accetti il ​​nostro utilizzo dei cookie. politica sulla riservatezza
RifiutareAccettare