SiC poroso
Mandrino sottovuoto in ceramica porosa
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Mandrino sottovuoto in ceramica porosa

Il mandrino sottovuoto in ceramica porosa di Vetek Semiconductor è realizzato in materiale ceramico al carburo di silicio (SiC), che ha un'eccellente resistenza alle alte temperature, stabilità chimica e resistenza meccanica. È un componente fondamentale indispensabile nel processo dei semiconduttori. Accolga favorevolmente le vostre ulteriori richieste.

Vetek Semiconductor è un produttore cinese di mandrini sottovuoto in ceramica porosa, utilizzati per fissare e trattenere wafer di silicio o altri substrati mediante adsorbimento sotto vuoto per garantire che questi materiali non si spostino o si deformino durante la lavorazione. Vetek Semiconducto è in grado di fornire prodotti con mandrini sottovuoto in ceramica porosa di elevata purezza con prestazioni a costi elevati. Benvenuto per informarsi.

Vetek Semiconductor offre una serie di eccellenti prodotti per mandrini sottovuoto in ceramica porosa, appositamente progettati per soddisfare i rigorosi requisiti della moderna produzione di semiconduttori. Questi vettori mostrano prestazioni eccellenti in termini di pulizia, planarità e configurazione personalizzabile del percorso del gas.


Pulizia senza pari:

Eliminazione delle impurità: Ogni mandrino sottovuoto in ceramica porosa viene sinterizzato a 1200°C per 1,5 ore per rimuovere completamente le impurità e garantire che la superficie sia pulita come nuova.

Confezionamento sottovuoto: Per mantenere lo stato pulito, il mandrino sottovuoto in ceramica porosa è confezionato sottovuoto per prevenire la contaminazione durante lo stoccaggio e il trasporto.

Eccellente planarità:

Adsorbimento di wafer solidi: Il mandrino sottovuoto in ceramica porosa mantiene una forza di adsorbimento di -60 kPa e -70 kPa rispettivamente prima e dopo il posizionamento del wafer, garantendo che il wafer sia saldamente assorbito e prevenga che cada durante la trasmissione ad alta velocità.

Lavorazione di precisione: La parte posteriore del supporto è lavorata con precisione per garantire una superficie completamente piana, mantenendo così una tenuta di vuoto stabile e prevenendo perdite.

Progettazione personalizzata:

Incentrato sul cliente: Vetek Semiconductor lavora a stretto contatto con i clienti per progettare configurazioni del percorso del gas che soddisfino i loro requisiti di processo specifici per ottimizzare l'efficienza e le prestazioni.

Test di qualità rigorosi:

Vetek conduce test completi su ogni pezzo di mandrino sottovuoto SiC poroso per garantirne la qualità:

Prova di ossidazione: Il mandrino sottovuoto SiC viene riscaldato rapidamente a 900°C in un ambiente privo di ossigeno per simulare l'effettivo processo di ossidazione. Prima di ciò, il supporto viene ricotto a 1100°C per garantire prestazioni ottimali.

Test dei residui metallici: Per prevenire la contaminazione, il supporto viene riscaldato ad una temperatura elevata di 1200°C per rilevare se sono precipitate impurità metalliche.

Prova del vuoto: Misurando la differenza di pressione tra il mandrino sottovuoto SiC poroso con e senza wafer, le sue prestazioni di tenuta del vuoto vengono rigorosamente testate. La differenza di pressione deve essere controllata entro ±2kPa.


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Tabella delle caratteristiche del mandrino a vuoto in ceramica porosa:

Silicon Carbide Porous Ceramics Characteristics Table


Negozi di mandrini sottovuoto SiC porosi VeTek Semiconductor:


VeTek Semiconductor Production Shop



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