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Paletta a sbalzo in carburo di silicio (SiC).
  • Paletta a sbalzo in carburo di silicio (SiC).Paletta a sbalzo in carburo di silicio (SiC).

Paletta a sbalzo in carburo di silicio (SiC).

Il ruolo della paletta a sbalzo di silicio (SIC) nel settore dei semiconduttori è sostenere e trasportare wafer. Nei processi ad alta temperatura come diffusione e ossidazione, la paletta SIC a sbalzo può trasportare stabilmente barche e wafer senza deformazione o danno a causa di alta temperatura, garantendo il regolare progresso del processo. Rendere più uniforme la diffusione, l'ossidazione e altri processi è fondamentale per migliorare la coerenza e la resa dell'elaborazione del wafer. Vetek Semiconductor utilizza una tecnologia avanzata per costruire paddle SIC a sbalzo con carburo di silicio di alta purezza per garantire che i wafer non siano contaminati. Vetek Semiconductor attende con impazienza la cooperazione a lungo termine con te sui prodotti a paletta a sbalzo di silicio (SIC).

La pagaia a sbalzo di silicio (SIC) è un componente chiave indispensabile nel processo di elaborazione del wafer. Fa principalmente una parte del sistema di trasporto del wafer. Impegna l'importante compito di trasportare e trasportare wafer in attrezzature come forni di diffusione dell'ossidazione ad alta temperatura, garantendo la concentricità del wafer e del tubo del forno e migliorare la coerenza e la resa della lavorazione del wafer.


La pala a sbalzo SiC ha eccellenti prestazioni alle alte temperature: in ambienti ad alta temperatura fino a 1600 ℃, la pala a sbalzo SiC può comunque mantenere elevata resistenza e stabilità, non si deformerà, non danneggerà e non presenterà altri problemi e può funzionare stabilmente per lungo tempo.


La pala a sbalzo in carburo di silicio è realizzata in materiale SiC di elevata purezza e nessuna particella cadrà durante la lavorazione del wafer, evitando la contaminazione della superficie del wafer. Il materiale in carburo di silicio ha un'elevata resistenza alla flessione e può sopportare sollecitazioni maggiori quando si trasportano più wafer e non è soggetto a rotture, garantendo la sicurezza e la stabilità del processo di trasmissione dei wafer. L'eccellente stabilità chimica del SiC aiuta la pala a sbalzo SiC a resistere alla corrosione di vari prodotti chimici e gas, impedisce alle impurità di contaminare il wafer a causa della corrosione del materiale e prolunga la durata del prodotto.


SiC Cantilever Paddle working diagram

Diagramma di lavoro a paddle SIC a sballo


Specifiche del prodotto


● Varie dimensioni: Forniamo palette cantilever in carburo di silicio (SiC) di varie dimensioni per soddisfare le esigenze di diversi tipi di apparecchiature per semiconduttori e lavorazione di wafer di diverse dimensioni.


●  Servizio personalizzato: Oltre ai prodotti delle specifiche standard, possiamo anche creare soluzioni esclusive per i clienti in base ai loro requisiti speciali, come dimensioni specifiche, forma, capacità di carico, ecc.


●  Design dello stampaggio in un unico pezzo: Di solito è prodotto utilizzando un processo di stampaggio monopezzo, tra cui la sezione di collegamento, la sezione di transizione e la sezione dei cuscinetti. Le parti sono strettamente connesse e hanno una forte integrità, che migliora efficacemente la resistenza strutturale e la stabilità del prodotto e riduce il rischio di fallimento causato da parti di connessione deboli.


●  Struttura rinforzata: Alcuni prodotti sono dotati di strutture di rinforzo in parti chiave come la sezione di transizione, come la piastra inferiore, la piastra di pressione, la biella, ecc., che migliora ulteriormente la resistenza della connessione tra la sezione di transizione e la sezione di collegamento e la sezione di supporto , migliora l'affidabilità della pala cantilever SiC ad alta purezza durante il trasporto del wafer e previene problemi come la frattura nell'area di transizione.


●  Design speciale dell'area dei cuscinetti: Il design dell'area del cuscinetto considera completamente il posizionamento e il trasferimento di calore del wafer. Alcuni prodotti sono dotati di scanalature a forma di U, fori lunghi, fori rettangolari e altre strutture nell'area del cuscinetto, che non solo riducono il peso dell'area del cuscinetto stesso, ma riduce anche l'area di contatto con il wafer per evitare di bloccare il calore. Allo stesso tempo, può anche garantire la stabilità del wafer durante la trasmissione e impedire la caduta del wafer.


Proprietà fisiche del carburo di silicio ricristallizzato:

Proprietà
Valore tipico
Temperatura di lavoro (° C)
1600°C (con ossigeno), 1700°C (ambiente riducente)
Contenuto di SiC
> 99,96%
Contenuto SI gratuito
<0,1%
Densità apparente
2,60-2,70 g/cm3
Porosità apparente
< 16%
Porosità apparente
> 600MPa
Forza di piegatura fredda
80-90 MPa (20 ° C)
Forza di piegatura calda
90-100 MPa (1400 ° C)
Espansione termica @1500 ° C.
4,7010-6/°C
Conduttività termica @1200°C
23 W/m·K
Modulo elastico
240 GPA
Resistenza agli shock termici
Estremamente buono


Durante il processo di produzione, ciascuna pala a sbalzo in carburo di silicio (SiC) deve essere sottoposta a severi controlli di qualità, tra cui controllo di precisione dimensionale, controllo dell'aspetto, test delle proprietà fisiche, test di stabilità chimica, ecc., per garantire che il prodotto soddisfi elevati standard di qualità e possa soddisfare i severi requisiti della lavorazione dei wafer semiconduttori.


Semiconduttore VeTekfornisce una gamma completa di servizi post-vendita. Se i clienti riscontrano problemi durante l'uso, il team post-vendita professionale risponderà tempestivamente e fornirà ai clienti soluzioni rapide ed efficaci per garantire che la produzione dei clienti non venga compromessa.



Semiconduttore VeTekOfficine di produzione di palette a sbalzo SiC ad alta purezza:


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