Soffione doccia a gas SiC solido

Solid Sic Shower Head

Vetek Semiconductor è una società integrata dedicata alla ricerca, alla produzione e alle vendite. Vetek Semiconductor ha lavorato per epitassia a semiconduttore, incisione e altri prodotti relativi al processo per molti anni, in particolare il rivestimento SIC CVD, il rivestimento CVD TAC e il SIC solido CVD sono i nostri prodotti di punta.

I soffioni doccia a gas SiC solidi VeTek Semiconductor sono comunemente utilizzati per distribuire uniformemente i gas precursori sulla superficie del substrato durante i processi CVD dei semiconduttori. L'utilizzo del materiale CVD-SiC per i soffioni doccia offre numerosi vantaggi. La sua elevata conduttività termica aiuta a dissipare il calore generato nel processo CVD, garantendo una distribuzione uniforme della temperatura sul substrato. Inoltre, la stabilità chimica del soffione doccia CVD sic gli consente di resistere ai gas corrosivi e agli ambienti difficili comunemente incontrati nei processi CVD. 

La progettazione di soffioni di doccia SIC CVD può essere adattata a specifici sistemi CVD e requisiti di processo. Tuttavia, in genere sono costituiti da un componente a forma di piastra o a forma di disco con una serie di fori o slot perforati di precisione. Il modello del foro e la geometria sono attentamente progettati per garantire la distribuzione uniforme del gas e la velocità di flusso sulla superficie del substrato.

Proprietà fisiche di SIC solido