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Perno di sollevamento wafer
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Perno di sollevamento wafer

VeTek Semiconductor è un produttore e innovatore leader di perni di sollevamento wafer EPI in Cina. Siamo specializzati da molti anni nel rivestimento SiC sulla superficie della grafite. Offriamo un perno di sollevamento wafer EPI per il processo Epi. Con l'alta qualità e il prezzo competitivo, vi diamo il benvenuto a visitare la nostra fabbrica in Cina.

VeTek Semiconductor fornisceRivestimento SiCERivestimento TaCMateriale con prezzo di competizione e alta qualità, benvenuto a indagare US.


Il perno di sollevamento del wafer EPI a semiconduttore Vetek è un dispositivo chiave appositamente progettato per la produzione di semiconduttori. Viene utilizzato per sollevare e trasportare wafer, garantendo la loro sicurezza e stabilità durante la produzione. Forniamo perno di sollevamento del wafer rivestito SIC, perno di punta, anello pre-riscaldamento per il processo EPI.


I nostri pin di sollevamento del wafer EPI offrono le seguenti caratteristiche e vantaggi:

● Elevata precisione e stabilità: i perni di sollevamento wafer EPI utilizzano processi e materiali avanzati per garantire elevata precisione e stabilità durante il sollevamento e la movimentazione dei wafer. Può posizionare e fissare con precisione i wafer, evitando la deviazione e il danneggiamento dei wafer durante la produzione.

● Sicurezza e affidabilità: I nostri pin di sollevamento del wafer EPI sono fabbricati con materiali ad alta resistenza per un'eccellente durata e affidabilità. È in grado di resistere a peso e pressione, garantendo che il wafer non venga danneggiato o lasciato cadere accidentalmente durante la maneggevolezza.

● Automazione ed efficienza: I perni di sollevamento wafer EPI VeTek Semiconductor sono progettati per funzionare in modo autonomo e integrarsi perfettamente con le apparecchiature di produzione di semiconduttori. Può sollevare e spostare i wafer in modo rapido e preciso, aumentando l'efficienza produttiva e riducendo la necessità di operazioni manuali.

● Compatibilità e applicabilità: I perni di sollevamento wafer EPI sono adatti per un'ampia gamma di dimensioni e tipi di wafer, inclusi wafer di diversi diametri e materiali. Può essere compatibile con una varietà di apparecchiature e processi di produzione di semiconduttori ed è adatto a una varietà di ambienti di produzione.

● Supporto di alta qualità e affidabile: Ci impegniamo a fornire prodotti affidabili e di alta qualità e a fornire supporto e servizio completi ai nostri clienti. I nostri perni di sollevamento wafer sono sottoposti a rigorosi controlli di qualità e test per garantirne prestazioni e durata.


SEM Dati del film SIC CVD:

SEM DATA OF CVD SIC FILM

Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD:

Proprietà fisiche di base diRivestimento SiC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura cristallina Polycristalline della fase β FCC, principalmente (111) orientato
Densità di rivestimento CVD SIC 3,21 g/cm³
Durezza del rivestimento SiC 2500 Vickers Durezza (500 g di carico)
Dimensione del grano 2 ~ 10 mm
Purezza chimica 99,99995%
Capacità termica 640 J·kg-1· K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Forza di flessione 415 MPA RT 4 punti
Modulo di Young Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conducibilità termica 300W · m-1· K-1
Espansione termica (CTE) 4,5×10-6K-1


Semiconduttore VeTek Perno di sollevamento waferNegozio di produzione

SiC Graphite substrateWafer Lift Pin testSilicon carbide ceramic processingEPI process equipment


Panoramica della catena industriale dell'epitassia dei chip semiconduttori:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy

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