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GAN Supporto di grafite epitassiale per G5
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GAN Supporto di grafite epitassiale per G5

Vetek Semiconductor è un produttore e un fornitore professionista, dedicato a fornire suscettore di grafite epitassiale GAN di alta qualità per G5. Abbiamo istituito partnership a lungo termine e stabili con numerose società famose in patria e all'estero, guadagnando la fiducia e il rispetto dei nostri clienti.

Vetek Semiconductor è un suscettore di grafite epitassiale di Cina GAN professionista per il produttore e il fornitore G5. Il suscettore di grafite epitassiale GAN per G5 è un componente critico utilizzato nel sistema di deposizione chimica chimica metallo-organica (MOCVD) per la crescita di film sottili di gallio di alta qualità (GAN), svolge un ruolo cruciale nel garantire un ruolo cruciale nel garantire una temperatura uniforme a temperatura uniforme Distribuzione, trasferimento di calore efficiente e contaminazione minima durante il processo di crescita.


Caratteristiche principali del suscettore epitassiale in grafite GaN di VeTek Semiconductor per G5:

-Il massimo: il suscettore è realizzato con grafite altamente pura con rivestimento CVD, minimizzando la contaminazione dei film GAN in crescita.

-Eccellente conduttività termica: l'elevata conduttività termica della grafite (150-300 W/(m·K)) garantisce una distribuzione uniforme della temperatura attraverso il suscettore, determinando una crescita costante del film GaN.

-Bassa espansione termica: il basso coefficiente di espansione termica del suscettore riduce al minimo lo stress termico e le fessurazioni durante il processo di crescita ad alta temperatura.

-Intiness chimico: la grafite è chimicamente inerte e non reagisce con i precursori GAN, prevenendo impurità indesiderate nei film cresciuti.

-Compatibilità con Aixtron G5: il suscettore è specificamente progettato per l'uso nel sistema MOCVD di Aixtron G5, garantendo l'adattamento e la funzionalità adeguati.


Applicazioni:

LED ad alta luminosità: i LED a base di GAN offrono un'alta efficienza e una lunga durata, rendendoli ideali per l'illuminazione generale, l'illuminazione automobilistica e le applicazioni di visualizzazione.

Transistor ad alta potenza: i transistor GaN offrono prestazioni superiori in termini di densità di potenza, efficienza e velocità di commutazione, rendendoli adatti per applicazioni di elettronica di potenza.

Diodi laser: i diodi laser a base di GAN offrono elevate efficienza e lunghezze d'onda corte, rendendoli ideali per applicazioni di archiviazione e comunicazione ottiche.


Parametro del prodotto del suscettore di grafite epitassiale GAN per G5

Proprietà fisiche della grafite isostatica
Proprietà Unità Valore tipico
Densità apparente g/cm³ 1.83
Durezza HSD 58
Resistività elettrica μΩ.m 10
Resistenza alla flessione MPA 47
Resistenza alla compressione MPA 103
Resistenza alla trazione MPA 31
Il modulo di Young GPA 11.8
Espansione termica (CTE) 10-6K-1 4.6
Conducibilità termica W · m-1· K-1 130
Dimensione media del grano μm 8-10
Porosità % 10
Contenuto di cenere ppm ≤10 (dopo purificato)

Nota: prima del rivestimento, faremo la prima purificazione, dopo il rivestimento, eseguirà la seconda purificazione.


Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura cristallina Polycristalline della fase β FCC, principalmente (111) orientato
Densità 3,21 g/cm³
Durezza 2500 Vickers Durezza (500 g di carico)
Dimensione del grano 2 ~ 10 mm
Purezza chimica 99,99995%
Capacità termica 640 J · kg-1· K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Resistenza alla flessione 415 MPA RT 4 punti
Il modulo di Young Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conducibilità termica 300W · m-1· K-1
Dilatazione termica (CTE) 4,5×10-6K-1


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