Barca wafer al quarzo ad alta purezza

La barca del wafer al quarzo ad alta purezza di VETEK Semiconductor è realizzata in quarzo ultra-alto, che ha le caratteristiche di basso contenuto di idrossile, elevata purezza e forte resistenza ad alta temperatura. Questo materiale è anche ampiamente utilizzato nell'industria dei semiconduttori come materiale per forni di diffusione e componenti del forno CVD. Come contenitore per il trasporto di wafer di silicio, il wafer di barca in quarzo ad alta purezza è stato utilizzato in semi -ductor, fotovoltaici, chimici e altri campi.

Scenari applicativi

Il primo è il campo a semiconduttore. Il processo di trattamento termico dei wafer è molto importante, tra cui ossidazione termica, diffusione, ricottura, ecc. Attraverso il processo di trattamento termico, diamo ai wafer nuove caratteristiche.

Le provette per core di forno batch vengono utilizzati per i processi di elaborazione del wafer a semiconduttore come ossidazione termica, diffusione ad alta temperatura, ricottura e deposizione di film sottile. Il forno di riscaldamento batch viene utilizzato principalmente per riscaldare il corpo del forno per bobine per completare il trattamento termico. Secondo le diverse strutture di lavoro, le provette per core di forno batch possono essere divisi in forni orizzontali e forni verticali:

(1) La barca di wafer al quarzo ad alta purezza del forno orizzontale viene posizionata orizzontale, quindi è chiamata fornace orizzontale.

Nel processo di trattamento termico, il wafer viene caricato sulla Wafer Boat al quarzo ad alta purezza, inviato lentamente nel tubo del forno al quarzo e il wafer viene posizionato in una zona a temperatura costante per la lavorazione. Dopo aver atteso il completamento del processo, la barca al quarzo utilizzata dal wafer viene lentamente estratta dal forno al quarzo per evitare che il wafer venga danneggiato a causa di improvvisi sbalzi di temperatura. I forni orizzontali sono ampiamente utilizzati nel processo di diffusione di circuiti integrati con diametro di wafer inferiore a 200 mm. 

I vantaggi dei forni orizzontali sono il processo semplice, la buona uniformità tra i wafer e la capacità di elaborare più wafer contemporaneamente. Gli svantaggi sono la bassa velocità di riscaldamento, le grandi dimensioni dell'apparecchiatura, la difficoltà di automazione e il facile ingresso di aria esterna durante il caricamento e lo scaricamento dei wafer.

(2) La barca per wafer al quarzo ad alta purezza del forno verticale è posizionata verticalmente, quindi è chiamata fornace verticale.

Il wafer viene caricato sulla torre di quarzo e sale lentamente verso il tubo del forno di quarzo per il riscaldamento. Durante il processo di riscaldamento, la barca per wafer al quarzo ad alta purezza ruoterà lentamente per garantire che il wafer venga riscaldato in modo uniforme. Dopo la lavorazione, la torre di quarzo scenderà lentamente per evitare sbalzi di temperatura che potrebbero causare danni ai wafer. I forni verticali vengono utilizzati principalmente nel processo di circuito integrato di wafer di diametro 200 mm e 300 mm. La tecnologia principale dei forni verticali risiede nel controllo ad alta precisione del campo della temperatura, nel controllo delle particelle, nel controllo del micro-ossigeno nel microambiente e nella motorizzazione. I vantaggi dei forni verticali sono il sottile strato di ossido naturale, la buona uniformità, l'automazione più semplice, l'ingombro ridotto delle apparecchiature e l'elaborazione in lotti. Lo svantaggio è che la velocità di riscaldamento è lenta.

Nel campo fotovoltaico, il processo di produzione delle celle fotovoltaiche richiede barche al quarzo per trasportare e trasportare wafer di silicio nel processo di diffusione ad alta temperatura. Il trattamento ad alta temperatura in un azoto di alta purezza, ossigeno o altra atmosfera di gas inerte, come la diffusione del fosforo o la diffusione del boro, è un passo importante nel processo di produzione delle celle solari. Lo scopo è quello di formare una giunzione PN sul wafer di silicio.

La barca al quarzo ha delle fessure progettate con precisione all'interno per garantire che il wafer di silicio mantenga la posizione esatta durante il processo di diffusione ad alta temperatura e sia riscaldato uniformemente. Poiché il materiale al quarzo ha una buona resistenza alle alte temperature e stabilità chimica, non inquina il wafer di silicio, il che favorisce il mantenimento di un'elevata pulizia dell'ambiente di produzione.

In qualità di innovatore e leader nel mercato cinese delle barche con wafer al quarzo usate, che tu sia impegnato nell'industria dei semiconduttori o nell'industria fotovoltaica, se hai bisogno di una barca con wafer al quarzo ad alta purezza, chiedici un preventivo e saremo in grado di personalizzare per te in base alle tue esigenze.

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