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Disc set di rivestimento SIC
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Disc set di rivestimento SIC

Vetek Semiconductor è il miglior produttore di rivestimenti SIC CVD in Cina, offre un disco di rivestimento SIC nei reattori MOCVD Aixtron. Questi set di rivestimenti SIC sono realizzati utilizzando grafite ad alta purezza e presentano un rivestimento SIC CVD con impurità inferiore alle 5 ppm. La tua richiesta è accolta.

Vetek Semiconductor è il produttore e il fornitore di Cina di Cina SIC che produce principalmente un disco di rivestimento SIC, collezionista, suscettore con molti anni di esperienza. Spero di costruire relazioni commerciali con te.



Il disco di rivestimento Aixtron SIC è un prodotto ad alte prestazioni progettato per una vasta gamma di applicazioni. Il kit è realizzato con materiale di grafite di alta qualità con un protettivorivestimento in carburo di silicio (sic)Il rivestimento in carburo di silicio (SIC) sulla superficie del disco haDiversi vantaggi importanti:


Prima di tutto, migliora notevolmente la conduttività termica del materiale di grafite, ottenendo una conduzione efficiente del calore e un controllo preciso della temperatura. Ciò garantisce il riscaldamento o il raffreddamento uniforme dell'intero disco durante l'uso, con conseguenti prestazioni coerenti.


In secondo luogo, il rivestimento in carburo di silicio (SIC) ha un'eccellente inerzia chimica, rendendo il disco altamente resistente alla corrosione. Questa resistenza alla corrosione garantisce la longevità e l'affidabilità del disco, anche in ambienti duri e corrosivi, rendendolo adatto a una varietà di scenari di applicazione.


Inoltre, il rivestimento in carburo di silicio (SIC) migliora la durata complessiva e la resistenza all'usura del set del disco. Questo strato protettivo aiuta il disco a resistere all'uso ripetuto, riducendo il rischio di danni o degradi che possono verificarsi nel tempo. La maggiore durata garantisce le prestazioni a lungo termine e l'affidabilità del set di disco.


I dischi di set di rivestimenti Aixtron SIC sono ampiamente utilizzati nei laboratori di produzione, lavorazione chimica e ricerca di semiconduttori. La sua eccellente conduttività termica, resistenza chimica e durata lo rendono ideale per applicazioni critiche che richiedono un controllo preciso della temperatura e ambienti resistenti alla corrosione.


CVD SIC Film Crystal Struttura:

Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD:

Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura cristallina Polycristalline della fase β FCC, principalmente (111) orientato
Densità 3,21 g/cm³
Durezza 2500 Vickers Durezza (500 g di carico)
Dimensione del grano 2 ~ 10 mm
Purezza chimica 99.99995%
Capacità termica 640 J · kg-1· K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Forza di flessione 415 MPA RT 4 punti
Modulo di Young 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Conducibilità termica 300W · m-1· K-1
Espansione termica (CTE) 4,5 × 10-6K-1


Panoramica della catena dell'industria dell'epitassia del chip a semiconduttore:

SiC Epitaxy Si Epitaxy GaN Epitaxy


SemiconduttoreDisc set di rivestimento SICNegozio di produzione

SiC Graphite substrateVeTek Semiconductor SiC Coating Set Disc testSilicon carbide ceramic processAixtron MOCVD Reactor



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