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Processo di epitassia SiC

Gli esclusivi rivestimenti in carburo di VeTek Semiconductor forniscono una protezione superiore per le parti in grafite nel processo epitassia SiC per la lavorazione di materiali semiconduttori e semiconduttori compositi esigenti. Il risultato è una maggiore durata dei componenti della grafite, la preservazione della stechiometria della reazione, l'inibizione della migrazione delle impurità all'epitassia e applicazioni di crescita dei cristalli, con conseguente aumento della resa e della qualità.


I nostri rivestimenti in carburo di tantalio (TaC) proteggono i componenti critici di forni e reattori ad alte temperature (fino a 2200°C) da ammoniaca calda, idrogeno, vapori di silicio e metalli fusi. VeTek Semiconductor dispone di un'ampia gamma di funzionalità di elaborazione e misurazione della grafite per soddisfare le vostre esigenze personalizzate, quindi possiamo offrire un rivestimento a pagamento o un servizio completo, con il nostro team di ingegneri esperti pronti a progettare la soluzione giusta per voi e la vostra applicazione specifica .


Cristalli semiconduttori composti

VeTek Semiconductor può fornire rivestimenti TaC speciali per vari componenti e supporti. Attraverso il processo di rivestimento leader del settore di VeTek Semiconductor, il rivestimento TaC può ottenere elevata purezza, stabilità alle alte temperature ed elevata resistenza chimica, migliorando così la qualità del prodotto degli strati cristallini di TaC/GaN ed EPl e prolungando la durata dei componenti critici del reattore.


Isolanti termici

Componenti per la crescita dei cristalli SiC, GaN e AlN tra cui crogioli, supporti per semi, deflettori e filtri. Assemblaggi industriali tra cui elementi riscaldanti resistivi, ugelli, anelli di schermatura e dispositivi di brasatura, componenti di reattori CVD epitassiali GaN e SiC inclusi supporti wafer, vassoi satellitari, soffioni, cappucci e piedistalli, componenti MOCVD.


Scopo:

 ● Portawafer LED (diodo a emissione luminosa).

● Ricevitore ALD (semiconduttore).

● Recettore EPI (processo epitassia SiC)


Confronto tra rivestimento SiC e rivestimento TaC:

SiC TaC
Caratteristiche principali Purezza ultraelevata, eccellente resistenza al plasma Eccellente stabilità alle alte temperature (conformità al processo ad alta temperatura)
Purezza >99,9999% >99,9999%
Densità (g/cm3) 3.21 15
Durezza (kg/mm2) 2900-3300 6.7-7.2
Resistività [Ωcm] 0,1-15.000 <1
Conduttività termica (W/m-K) 200-360 22
Coefficiente di dilatazione termica(10-6/℃) 4.5-5 6.3
Applicazione Attrezzatura per semiconduttori Maschera in ceramica (anello di messa a fuoco, soffione doccia, wafer fittizio) Crescita di cristallo singolo SiC, Epi, Parti dell'attrezzatura LED UV


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TAC rivestimento Chuck

TAC rivestimento Chuck

Il chuck di rivestimento TAC di Vetek Semiconductor presenta un rivestimento di alta qualità, noto per la sua eccezionale resistenza ad alta temperatura e inerzia chimica, in particolare nei processi di epitassia (SIC) di carburo di silicio (SIC). Con le sue caratteristiche eccezionali e prestazioni superiori, il nostro TAC Coating Chuck offre diversi vantaggi chiave. Ci impegniamo a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi e non vediamo l'ora di essere il tuo partner a lungo termine in Cina.
Mezzalmo epi di lpe siic

Mezzalmo epi di lpe siic

LPE SIC EPI Halfmoon è un design speciale per la fornace epitassia orizzonazionale, un prodotto rivoluzionario progettato per elevare i processi di epitassia SIC del reattore del reattore LPE. Questa soluzione all'avanguardia vanta diverse caratteristiche chiave che garantiscono prestazioni e efficienza superiori durante le operazioni di produzione. VETEK Semiconductor è professionale nella produzione di mezzamola EPI LPE SIC in 6 pollici, 8 pollici.
Mezzalmo rivestito in carburo di tantalum

Mezzalmo rivestito in carburo di tantalum

Parti di mezzamoia rivestite con rivestimento CVD TAC, sono più durevoli rispetto alle parti a mezzamoia rivestite SIC. Il semiconduttore VETEK è il produttore e il fornitore leader in Cina per la mezzamoia rivestita in carburo di Tantalum TAC, siamo specializzati in R&S e produzione, possiamo controllare il pozzetto di qualità e offrire un pozzo di qualità competitivo prezzo. Sei invitato a visitare la nostra fabbrica per ulteriori discussioni su una cooperazione a lungo termine.
Anello a tre petali rivestito in TaC

Anello a tre petali rivestito in TaC

VeTek Semiconductor è un produttore e innovatore leader di anelli a tre petali rivestiti in TaC in Cina. Siamo specializzati nel rivestimento TaC e SiC da molti anni. I nostri prodotti hanno resistenza alla corrosione ed elevata resistenza. Non vediamo l'ora di diventare il vostro partner a lungo termine in Cina. Benvenuti a consultare in qualsiasi momento.
Mandrino rivestito in carburo di tantalum

Mandrino rivestito in carburo di tantalum

Vetek Semiconductor è uno dei principali produttori di mangimi rivestiti in carburo di Tantalum e innovatore in Cina. Siamo stati specializzati nel rivestimento TAC per molti anni. I nostri prodotti hanno una resistenza ad alta purezza e alta temperatura fino a 2000 ℃. Non vediamo l'ora di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina. Da consultare in qualsiasi momento.
Copertura rivestita in carburo di tantalum

Copertura rivestita in carburo di tantalum

Vetek Semiconductor è uno dei principali produttori di coperture rivestite in carburo di Tantalum e innovatore in Cina. Siamo stati specializzati nel rivestimento TAC e SIC per molti anni. I nostri prodotti hanno una resistenza alla corrosione, alta resistenza. Non vediamo l'ora di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina. Ben per consultare in qualsiasi momento.
Come produttore e fornitore professionista Processo di epitassia SiC in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Processo di epitassia SiC realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.
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