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Piastra di rivestimento TAC
  • Piastra di rivestimento TACPiastra di rivestimento TAC

Piastra di rivestimento TAC

Progettata con precisione e progettata alla perfezione, la piastra di rivestimento TAC di Vetek Semiconductor è specificamente adattata per varie applicazioni nei processi di crescita a cristallo singolo di carburo di silicio (SIC). Le dimensioni precise della piastra di rivestimento TAC e la costruzione robusta rendono facile integrarsi nei sistemi esistenti, garantendo la compatibilità di seme e l'operazione efficiente. Le sue prestazioni affidabili e il rivestimento di alta qualità contribuiscono a risultati coerenti e uniformi in applicazioni di crescita dei cristalli SIC. Ci impegniamo a fornire prodotti di qualità a prezzi competitivi e non vediamo l'ora di essere il tuo partner a lungo termine in Cina.

Come principale produttore e fornitore di piastre di rivestimento TAC, la piastra di rivestimento TAC a semiconduttore Vetek funziona come parte chiave diReattore epitassia a semiconduttore, che aiuta l'eccellente resa epitassiale dello strato e l'efficienza della crescita e migliorare la qualità del prodotto. Puoi stare certo di acquistare la piastra di rivestimento TAC dalla nostra fabbrica.


Per la produzione di nuovi semiconduttori con ambienti di preparazione più severi e più severi, come la preparazione del terzo gruppo principale di nitruro di nitruro di nitruro (GAN) mediante deposizione di vapore chimico metallo-organico (MOCVD) e la preparazione di film di crescita epitassiale SIC da parte della deposizione di vapori chimici (CVD) sono erosi da gas come HES come H.2e NH3in ambienti ad alta temperatura. Gli strati protettivi SIC e BN sulla superficie dei portatori di crescita esistenti o dei canali del gas possono non riuscire a causa del loro coinvolgimento nelle reazioni chimiche, che influisce negativamente sulla qualità di prodotti come cristalli e semiconduttori. 


Pertanto, è necessario trovare un materiale con migliore stabilità chimica e resistenza alla corrosione come strato protettivo per migliorare la qualità di cristalli, semiconduttori e altri prodotti. Il carburo di Tantalum ha eccellenti proprietà fisiche e chimiche, a causa del ruolo di forti legami chimici, la sua stabilità chimica ad alta temperatura e la resistenza alla corrosione sono molto più alte di SIC, BN, ecc., È una grande prospettiva di applicazione della resistenza alla corrosione, il rivestimento eccezionale della stabilità termica.


Vetek Semiconductor ha attrezzature di produzione avanzate e un sistema di gestione perfetta della qualità, controllo di processo rigoroso per garantire ilRivestimento TACNei lotti di coerenza delle prestazioni, l'azienda ha una capacità di produzione su larga scala, per soddisfare le esigenze dei clienti in grandi quantità di fornitura, un meccanismo di monitoraggio della qualità perfetta per garantire la qualità di ciascun prodotto stabile e affidabile.


Rivestimento in carburo di tantalum su una sezione microscopica:

Tantalum carbide coating on a microscopic cross-section


Parametro di base del prodotto della piastra di rivestimento TAC:

Proprietà fisiche del rivestimento TAC
Densità di rivestimento 14.3 (g/cm³)
Emissività specifica 0.3
Coefficiente di espansione termica 6.3*10-6/K
TAC Rivestimento della durezza (HK) 2000 HK
Resistenza 1 × 10-5 ohm*cm
Stabilità termica <2500 ℃
La dimensione della grafite cambia -10 ~ -20um
Spessore del rivestimento ≥20um Valore tipico (35um ± 10um)


VETEK Semiconductor TAC PASEGLIO DI PARTE DI PARTE DI PROVA

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