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Cilindro di grafite SIC CVD
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Cilindro di grafite SIC CVD

Il cilindro di grafite SIC CVD SIC di Vetek Semiconductor è fondamentale nelle apparecchiature a semiconduttore, fungendo da scudo protettivo all'interno dei reattori per salvaguardare i componenti interni in impostazioni di alta temperatura e pressione. Si protegge efficacemente contro sostanze chimiche e calore estremo, preservando l'integrità delle attrezzature. Con un'eccezionale usura e resistenza alla corrosione, garantisce la longevità e la stabilità in ambienti impegnativi. L'utilizzo di queste coperture migliora le prestazioni del dispositivo a semiconduttore, prolunga la durata della vita e mitiga i requisiti di manutenzione e rischi di danno.

Il cilindro di grafite SIC CVD SIC di Vetek Semiconductor svolge un ruolo importante nelle apparecchiature a semiconduttore. Di solito viene utilizzato come copertura protettiva all'interno del reattore per fornire protezione ai componenti interni del reattore in ambienti ad alta temperatura e ad alta pressione. Questa copertura protettiva può isolare efficacemente le sostanze chimiche e le alte temperature nel reattore, impedendo loro di causare danni all'apparecchiatura. Allo stesso tempo, il cilindro di grafite SIC CVD ha anche un'eccellente resistenza all'usura e alla corrosione, rendendolo in grado di mantenere la stabilità e la durata a lungo termine in ambienti di lavoro duri. Utilizzando coperture protettive realizzate su questo materiale, le prestazioni e l'affidabilità dei dispositivi a semiconduttore possono essere migliorate, estendendo la durata di servizio del dispositivo riducendo al contempo le esigenze di manutenzione e il rischio di danni.


Il cilindro di grafite SIC CVD è ampiamente utilizzato nelle apparecchiature a semiconduttore, coprendo le seguenti aree chiave:


Attrezzatura per il trattamento termico

Serve come copertura protettiva o scudo di calore nelle apparecchiature per il trattamento termico. Ciò non solo protegge i componenti interni da danni ad alta temperatura, ma vanta anche un'eccellente resistenza ad alta temperatura.


Reattori di deposizione di vapore chimico (CVD)

Nei reattori CVD, funge da copertura protettiva per la camera di reazione chimica. Isola efficacemente le sostanze di reazione e offre una buona resistenza alla corrosione.


Ambienti corrosivi

Grazie alla sua eccezionale resistenza alla corrosione, il cilindro di grafite SIC CVD può essere utilizzato in ambienti chimicamente corrosivi durante la produzione di semiconduttori, come ambienti con gas corrosivi o liquidi.


Attrezzatura per la crescita dei semiconduttori

Funziona come coperture protettive o altri componenti nelle apparecchiature di crescita dei semiconduttori. Proteggendo l'attrezzatura da alte temperature, corrosione chimica e usura, garantisce la stabilità dell'attrezzatura e l'affidabilità a lungo termine.


Caratterizzato da stabilità ad alta temperatura, resistenza alla corrosione, eccellenti proprietà meccaniche e buona conducibilità termica, il cilindro di grafite SIC CVD facilita una dissipazione di calore più efficiente nei dispositivi a semiconduttore, mantenendo così la stabilità e le prestazioni del dispositivo.




Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD:

CVD SIC COATING FILM CRYSTAL STRUCTURE

Proprietà fisiche di base del rivestimento SIC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura cristallina Polycristalline della fase β FCC, principalmente (111) orientato
Densità 3,21 g/cm³
Durezza 2500 Vickers Durezza (500 g di carico)
Dimensione del grano 2 ~ 10 mm
Purezza chimica 99.99995%
Capacità termica 640 J · kg-1· K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Forza di flessione 415 MPA RT 4 punti
Il modulo di Young 430 GPA 4pt Bend, 1300 ℃
Conducibilità termica 300W · m-1· K-1
Espansione termica (CTE) 4,5 × 10-6K-1


Negozi di produzione:

VeTek Semiconductor Production Shop


Panoramica della catena dell'industria dell'epitassia del chip a semiconduttore:

Overview of the semiconductor chip epitaxy industry chain


Tag caldi: CVD SiC Graphite Cylinder
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