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Tantalum Carburo (TAC)è un composto binario di tantalum (TA) e carbonio (c), con la formula chimica di solito espressa come tacₓ (dove x varia da 0,4 a 1). È classificato come materiale ceramico refrattario con eccellente durezza, stabilità ad alta temperatura e conducibilità metallica.
1.1 Composizione chimica e struttura cristallina
Il carburo di Tantalum è un composto ceramico binario composto da tantalum (TA) e carbonio (C).
La sua struttura cristallina è cubica centrata sul viso (FCC), che gli conferisce un'eccellente durezza e stabilità.
1.2 Proprietà di legame
Il forte legame covalente rende il carburo di Tantalum estremamente duro e resistente alla deformazione.
TAC ha un coefficiente di diffusione estremamente basso e rimane stabile anche ad alte temperature.
Rivestimento in carburo di tantalum (TAC) su una sezione microscopica
Proprietà fisiche |
Valori |
Densità |
~ 14,3 g/cm³ |
Punto di fusione |
~ 3.880 ° C (molto alto) |
Durezza |
~ 9-10 MOHS (~ 2.000 Vickers) |
Conducibilità elettrica |
Alto (simile al metallo) |
Conducibilità termica |
~ 21 W/M · K. |
Stabilità chimica |
Altamente resistente all'ossidazione e alla corrosione |
2.1 Punto di fusione ultra-alto
Con un punto di fusione di 3.880 ° C, il carburo di Tantalum ha uno dei più alti punti di fusione di qualsiasi materiale noto, con conseguente eccellente stabilità a temperature estreme.
2.2 Ottima durezza
Con una durezza MOHS di circa 9-10, è vicino al diamante ed è quindi ampiamente utilizzato nei rivestimenti resistenti all'usura.
2.3 Buona conducibilità elettrica
A differenza della maggior parte dei materiali ceramici, TAC ha un'elevata conduttività elettrica simile al metallo, il che lo rende prezioso per le applicazioni in alcuni dispositivi elettronici.
2.4 Resistenza alla corrosione e all'ossidazione
Il TAC è estremamente resistente alla corrosione acida e mantiene la sua integrità strutturale in ambienti difficili per lunghi periodi di tempo.
Tuttavia, TAC può ossidarsi al pentossido di tantalum (ta₂o₅) in aria superiore a 1.500 ° C.
3.1 Parti rivestite in carburo di Tantalum
● Suscettore rivestito in carburo di tantalum CVD: Utilizzato nell'epitassia a semiconduttore e nell'elaborazione ad alta temperatura.
● Parti di grafite rivestite in carburo di tantalum: Usato in forni ad alta temperatura e camere di elaborazione del wafer. Esempi includono grafite porosa rivestita in carburo di tantaLum, che migliora significativamente l'efficienza del processo e la qualità dei cristalli ottimizzando il flusso di gas durante la crescita dei cristalli SIC, riducendo lo stress termico, migliorando l'uniformità termica, migliorando la resistenza alla corrosione e inibendo la diffusione dell'impurità.
● Piastra di rotazione rivestita in carburo di tantalum: La piastra di rotazione rivestita TAC di Veteksemicon ha una composizione ad alta purezza con contenuto di impurità inferiore alle 5 ppm e una struttura densa e uniforme, ampiamente utilizzata nel sistema EPI LPE, sistema Aixtron, sistema NUFLARE, sistema TEL CVD, sistema VeeCO, sistema TSI. Sistemi, sistemi TSI.
● Riscaldatore rivestito tac: La combinazione del punto di fusione estremamente elevato del rivestimento TAC (~ 3880 ° C) gli consente di funzionare a temperature molto elevate, in particolare nella crescita degli strati epitassiali di nitruro di gallio (GAN) nel processo di deposizione di vapori chimici organici (MOCVD).
● Crogiolo rivestito in carburo di tantalum: Cruvibili rivestiti CVD TAC spesso svolgono un ruolo chiave nella crescita dei singoli cristalli SIC da parte del PVT.
3.2 Strumenti di taglio e componenti resistenti all'usura
● Strumenti di taglio in carburo rivestiti in carburo di Tantalum: Migliora la durata degli strumenti e l'accuratezza della lavorazione.
● Gli ugelli aerospaziali e gli scudi di calore: Fornire protezione in ambienti di calore estremo e corrosivi.
3.3 Prodotti in ceramica ad alte prestazioni in carburo di Tantalum
● Sistemi di protezione termica spaziale (TPS): per veicoli spaziali e ipersonici.
● Rivestimenti per combustibili nucleari: Proteggi i pellet di combustibile nucleare dalla corrosione.
4.1 Carrier rivestiti in carburo di Tantalum (suscettore) per i processi epitassiali
Ruolo: i rivestimenti in carburo di Tantalum applicati ai portatori di grafite migliorano l'uniformità termica e la stabilità chimica nei processi di deposizione di vapore chimico (CVD) e deposizione di vapore chimico-metallo-organico (MOCVD).
Vantaggio: ridotta contaminazione del processo e vita portante estesa.
4.2 Componenti di incisione e deposizione
Anelli e scudi di trasferimento di wafer: il rivestimento in carburo di Tantalum migliora la durata delle camere di incisione del plasma.
Vantaggio: resiste agli ambienti di incisione aggressivi e riduce le precipitazioni contaminanti.
4.3 Elementi di riscaldamento ad alta temperatura
Applicazione nella crescita CVD SIC: elementi di riscaldamento rivestiti in carburo di Tantalum migliorano la stabilità e l'efficienza del processo di fabbricazione del wafer di carburo di silicio (SIC).
4.4 Rivestimenti protettivi per attrezzature per la produzione di semiconduttori
Perché hai bisogno di rivestimento TAC? La produzione di semiconduttori comporta temperature estreme e gas corrosivi e i rivestimenti in carburo di Tantalum sono efficaci per migliorare la stabilità e la durata delle attrezzature.
Semicon è un produttore e fornitore leader diRivestimento in carburo di tantalumMateriali all'industria dei semiconduttori in Cina. I nostri principali prodotti includono parti rivestite in carburo di CVD tantalum, parti rivestite TAC sinterizzate per la crescita dei cristalli SIC o i processi di epitassia a semiconduttore. Veteksemicon si impegna a diventare un innovatore e leader nell'industria del rivestimento in carburo di TantaLum attraverso la ricerca di ricerca e sviluppo continua e l'iterazione tecnologica.
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