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Anello di carburo di tantalum
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Anello di carburo di tantalum

Come produttore avanzato e produttore di prodotti ad anello in carburo di Tantalum in Cina, l'anello in carburo di VantaLum Vetek ha una durezza estremamente elevata, resistenza all'usura, resistenza all'alta temperatura e stabilità chimica ed è ampiamente utilizzato nel campo di produzione di semiconduttori. Soprattutto in CVD, PVD, processo di impianto ionico, processo di incisione e trasporto e trasporto di wafer, è un prodotto indispensabile per la lavorazione e la produzione di semiconduttori. In attesa della tua ulteriore consultazione.

L'anello Tantalum Carbide (TAC) di Vetek Semiconductor utilizza la grafite di alta qualità come materiale centrale e, grazie alla sua struttura unica, è in grado di mantenere la sua forma e proprietà meccaniche nelle condizioni estreme di un forno di crescita cristallina. L'elevata resistenza al calore di Grafite gli conferisce un'eccellente stabilità in tutto ilprocesso di crescita cristallina.


Lo strato esterno dell'anello TAC è coperto da arivestimento in carburo di tantalum, un materiale noto per la sua durezza estremamente elevata, un punto di fusione di oltre 3880 ° C e un'eccellente resistenza alla corrosione chimica, rendendolo particolarmente adatto per ambienti operativi ad alta temperatura. Il rivestimento in carburo di TantaLum fornisce una forte barriera per prevenire efficacemente le reazioni chimiche violente e garantire che il nucleo di grafite non sia corrido da gas da forno ad alta temperatura.


DuranteCrescita cristallina in carburo di silicio (SIC), Le condizioni di crescita stabili e uniformi sono fondamentali per garantire cristalli di alta qualità. L'anello di rivestimento in carburo di Tantalum svolge un ruolo vitale nella regolazione del flusso di gas e nell'ottimizzazione della distribuzione della temperatura all'interno del forno. Come anello guida al gas, l'anello TAC garantisce la distribuzione uniforme dell'energia termica e dei gas di reazione, garantendo una crescita uniforme e la stabilità dei cristalli SIC.


Inoltre, l'elevata conduttività termica della grafite combinata con l'effetto protettivo del rivestimento in carburo di TantaLum consente all'anello guida TAC di funzionare stabilmente nell'ambiente ad alta temperatura richiesto per la crescita del cristallo SIC. La sua resistenza strutturale e la stabilità dimensionale sono cruciali per mantenere le condizioni nel forno, il che influisce direttamente sulla qualità dei cristalli prodotti. Riducendo le fluttuazioni termiche e le reazioni chimiche all'interno del forno, l'anello di rivestimento TAC aiuta a generare cristalli con eccellenti proprietà elettroniche per applicazioni a semiconduttore ad alte prestazioni.


L'anello in carburo di Tantalum di Vetek Semiconductor è un componente chiave diforniture in cristallo in carburo di silicioe si distingue per la sua eccellente durata, stabilità termica e resistenza chimica. La sua combinazione unica di core di grafite e rivestimento TAC gli consente di mantenere l'integrità e le funzionalità strutturali in condizioni difficili. Controllando con precisione la temperatura e il flusso di gas all'interno del forno, l'anello di rivestimento TAC fornisce le condizioni necessarie per la produzione di cristalli SIC di alta qualità, che sono fondamentali per la produzione di componenti a semiconduttore all'avanguardia.


Rivestimento in carburo di tantalum (TAC) su una sezione microscopica

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4



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