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Chucks in ceramica siic porosi
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Chucks in ceramica siic porosi

Il polino ceramico SIC poroso di Veteksemicon è una piattaforma di vuoto ingegnerizzata con precisione progettata per la manipolazione di wafer sicura e priva di particelle in processi di semiconduttore avanzati come attacco, impianto ionico, CMP e ispezione. Prodotto in carburo di silicio poroso di alta purezza, offre una eccezionale conducibilità termica, resistenza chimica e resistenza meccanica. Con dimensioni e dimensioni dei pori personalizzabili, Veteksemicon offre soluzioni su misura per soddisfare le rigide esigenze degli ambienti di elaborazione del wafer per camere pulite.

I manichini in ceramica Sic porosi offerti da Veteksemicon sono realizzati in carburo di silicio poroso di alta purezza (SIC), questo mantello in ceramica garantisce un flusso di gas uniforme, un'eccellente pianezza e una stabilità termica in condizioni di aspirazione e temperatura elevate. È ideale per i sistemi di bloccaggio a vuoto, in cui la gestione dei wafer senza contatto senza contatto è fondamentale.


Ⅰ. Proprietà del materiale chiave e vantaggi per le prestazioni


1. Eccellente conducibilità termica e resistenza alla temperatura


Il carburo di silicio offre una conducibilità termica elevata (120-200 W/m · K) e può resistere a temperature operative superiori a 1600 ° C, rendendo il Chuck ideale per l'attacco al plasma, la lavorazione del raggio ionico e i processi di deposizione ad alta temperatura.

Ruolo: garantisce una dissipazione uniforme del calore, riduce la deformazione del wafer e il miglioramento dell'uniformità del processo.


2. Resistenza meccanica superiore e resistenza all'usura


La densa microstruttura di SIC offre la durezza eccezionale (> 2000 HV) e la durata meccanica, essenziale per i cicli di carico/scarico del wafer ripetuti e ambienti di processo duri.

Ruolo: prolunga la durata della vita di Chuck mantenendo la stabilità dimensionale e la precisione superficiale.


3. Porosità controllata per distribuzione uniforme del vuoto


La struttura porosa finemente sintonizzata della ceramica consente l'aspirazione del vuoto costante attraverso la superficie del wafer, garantendo un posizionamento sicuro del wafer con contaminazione da particelle minima.

Ruolo: migliora la compatibilità della camera pulita e garantisce una lavorazione del wafer senza danni.


4. Eccellente resistenza chimica


L'inertezza di SIC ai gas corrosivi e agli ambienti plasmatici protegge il mandrino dal degrado durante l'attacco a ioni reattivi o la pulizia chimica.

Ruolo: minimizza i tempi di inattività e la frequenza di pulizia, riducendo i costi operativi.


Ⅱ. Servizi di personalizzazione e supporto di Veteksemicon


A Veteksemicon forniamo uno spettro completo di servizi su misura per soddisfare le esigenze esigenti dei produttori di semiconduttori:


● Geometria personalizzata e design delle dimensioni dei pori: Offriamo mandrini di varie dimensioni, spessori e densità dei pori personalizzati per le specifiche dell'attrezzatura e i requisiti del vuoto.

● Prototipi di inversione rapida: Tempi di consegna brevi e supporto di produzione MOQ a basso R&D e linee pilota.

● Servizio post-vendita affidabile: Dalla guida all'installazione al monitoraggio del ciclo di vita, garantiamo la stabilità delle prestazioni a lungo termine e il supporto tecnico.


Ⅲ. Applicazioni


● Equipaggiamento di elaborazione del plasma

● Camere di impianto ionico e ricottura

● Sistemi di lucidatura meccanica chimica (CMP)

● piattaforme metrologiche e ispezioni

● Sistemi di detenzione e bloccaggio del vuoto in ambienti puliti

Negozio di prodotti Vekekemeicon:

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Tag caldi: Piastra di serraggio del vuoto, prodotti Veteksemicon SIC, sistema di gestione dei wafer, SIC Chuck per l'attacco
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