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Wafer in carburo di silicio Chuck
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Wafer in carburo di silicio Chuck

Come produttore leader e fornitore di prodotti Wafer Wafer in carburo di silicio in Cina, Chuck di Wafer in carburo di silicio di Vetek Semiconductor svolge un ruolo insostituibile nel processo di crescita epitassiale con la sua eccellente resistenza ad alta temperatura, resistenza alla corrosione chimica e resistenza alla corrosione termica. Benvenuti alla tua ulteriore consultazione.

VETEK Semiconductor Silicon Carbide Wafer Chuck utilizza le eccellenti proprietà dei materiali in carburo di silicio per soddisfare i rigorosi requisiti della produzione di semiconduttori, in particolare nella lavorazione dei semiconduttori che richiede precisione e affidabilità estremamente elevate.


Nel processo di elaborazione dei semiconduttori,Carburo di silicioha un'eccellente resistenza ad alta temperatura (può funzionare stabilmente fino a 1400 ° C), la bassa conducibilità (SIC ha una conducibilità relativamente bassa, in genere 10^-3S/M) e coefficiente di espansione termica bassa (circa 4,0 × 10^-6/° C), che è un materiale indispensabile e importante, particolarmente adatto per la produzione di Chuck del wafer in carburo di silicio.


Durante ilprocesso di crescita epitassiale, un sottile strato di materiale a semiconduttore viene depositato su un substrato, che richiede stabilità assoluta dal wafer per garantire strati di deposizione di film uniformi e di alta qualità. Il Chuck del vuoto SIC raggiunge questo creando una presa di aspirapolvere costante e costante per prevenire qualsiasi movimento o deformazione del wafer.


Il Wafer Wafer in carburo di silicio offre anche un'eccellente resistenza allo shock termico. Le rapide variazioni di temperatura sono comuni nella produzione di semiconduttori e materiali che non possono resistere a queste fluttuazioni possono rompere, piegare o fallire. Il carburo di silicio ha un basso coefficiente di espansione termica e può mantenere la sua forma e funzione anche sotto drastiche variazioni di temperatura, garantendo che il wafer rimanga sicuro durante il processo di epitassia senza movimento o disallineamento.


Inoltre, ilprocesso di epitassiaspesso comporta gas reattivi e altri prodotti chimici corrosivi. L'inertezza chimica del Wafer SIC Chuck assicura che non sia influenzata da questi ambienti difficili, mantenendo le sue prestazioni ed estendendo la sua durata di servizio. Questa durata chimica non solo riduce la frequenza della sostituzione del mandrino del wafer, ma garantisce anche prestazioni coerenti del prodotto su più cicli di produzione, contribuendo a migliorare l'efficienza complessiva e l'efficacia in termini di costi del processo di produzione dei semiconduttori.


Vetek Semiconductor è un produttore leader e fornitore di prodotti Wafer Wafer in carburo di silicio in Cina. Possiamo fornire vari tipi di prodotti Chuck comeChuck in ceramica SIC poroso, Chuck poroso Sic vuoto, Chuck di sottovuoto in ceramica porosaEChuck rivestito tac, ecc. Vetek Semiconductor si impegna a fornire soluzioni avanzate di tecnologia e prodotto per l'industria dei semiconduttori. Speriamo sinceramente di diventare il tuo partner a lungo termine in Cina.

SEM Dati di CVDStruttura cristallina del film sic

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE


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