Rivestimento in carburo di tantalio

VeTek semiconductor è un produttore leader di materiali di rivestimento in carburo di tantalio per l'industria dei semiconduttori. La nostra offerta di prodotti principali comprende parti di rivestimento in carburo di tantalio CVD, parti di rivestimento in TaC sinterizzato per la crescita dei cristalli SiC o il processo di epitassia dei semiconduttori. Superato ISO9001, VeTek Semiconductor ha un buon controllo sulla qualità. VeTek Semiconductor si impegna a diventare innovatore nel settore del rivestimento in carburo di tantalio attraverso la ricerca e lo sviluppo continui di tecnologie iterative.

I prodotti principali sonoAnello guida rivestito in TaC, Anello guida a tre petali rivestito in CVD TaC, Mezzaluna rivestita in TaC al carburo di tantalio, Suscettore epitassiale planetario SiC con rivestimento CVD TaC, Anello di rivestimento in carburo di tantalio, Grafite porosa rivestita in carburo di tantalio, Suscettore di rotazione del rivestimento TaC, Anello in carburo di tantalio, Piastra di rotazione del rivestimento TaC, Suscettore wafer rivestito in TaC, Anello deflettore rivestito in TaC, Copertura con rivestimento CVD TaC, Mandrino rivestito in TaCecc., la purezza è inferiore a 5 ppm e può soddisfare le esigenze del cliente.

La grafite con rivestimento TaC viene creata rivestendo la superficie di un substrato di grafite ad elevata purezza con uno strato sottile di carburo di tantalio mediante un processo proprietario di deposizione chimica in fase vapore (CVD). Il vantaggio è mostrato nell'immagine seguente:

Excellent properties of TaC coating graphite

Il rivestimento in carburo di tantalio (TaC) ha attirato l'attenzione grazie al suo elevato punto di fusione fino a 3880°C, all'eccellente resistenza meccanica, durezza e resistenza agli shock termici, che lo rendono un'alternativa interessante ai processi di epitassia composti di semiconduttori con requisiti di temperatura più elevati, come il sistema Aixtron MOCVD e il processo epitassia LPE SiC. Ha anche un'ampia applicazione nel processo di crescita dei cristalli SiC con metodo PVT.

Caratteristiche principali:

●Stabilità della temperatura

●Purezza ultra elevata

●Resistenza a H2, NH3, SiH4,Si

●Resistenza allo stock termico

●Forte adesione alla grafite

●Copertura del rivestimento conforme

● Dimensioni fino a 750 mm di diametro(L'unico produttore in Cina raggiunge queste dimensioni)

Applicazioni:

●Porta-wafer

● Suscettore di riscaldamento induttivo

● Elemento riscaldante resistivo

●Disco satellitare

●Soffione doccia

●Anello guida

●Ricevitore Epi LED

●Ugello di iniezione

●Anello di mascheramento

● Scudo termico

Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Proprietà fisiche del rivestimento TaC
Densità	14,3 (g/cm³)
Emissività specifica	0.3
Coefficiente di dilatazione termica	6.310^-6/K
Durezza (HK)	2000 Hong Kong
Resistenza	1×10^-5Ohm*cm
Stabilità termica	<2500 ℃
La dimensione della grafite cambia	-10~-20um
Spessore del rivestimento	Valore tipico ≥20um (35um±10um)

Dati EDX del rivestimento TaC：

EDX data of TaC coating

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC:

Elemento	Percentuale atomica
	Pt. 1	Pt. 2	Pt. 3	Media
CK	52.10	57.41	52.37	53.96
Loro	47.90	42.59	47.63	46.04

Mandrino con rivestimento TaC Disco planetario con rivestimento TaC
Piastra rivestita in TaC Piastra di rotazione del rivestimento TaC Ricevitore con rivestimento TaC Copertura con rivestimento CVD TaC Anello di rivestimento CVD TaC Piastra di rivestimento TaC

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Grafite porosa rivestita in carburo di tantalio

La grafite porosa rivestita in carburo di Tantalum è un prodotto indispensabile nel processo di elaborazione dei semiconduttori, in particolare nel processo di crescita dei cristalli SIC. Dopo continui aggiornamenti di investimenti in R&S e tecnologia, la qualità del prodotto poroso di grafite poroso di VETEK Semiconductor ha vinto elogi da parte dei clienti europei e americani. Benvenuti nella tua ulteriore consultazione.

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Suscettore epitassiale SIC Planetary SIC CVD TAC

Il suscettore epitassiale SIC Planetary SIC CVD TAC è uno dei componenti principali del reattore planetario MOCVD. Attraverso il suscettore epitassiale SIC planetario di rivestimento TAC CVD, le orbite di grandi dimensioni e il piccolo disco ruotano e il modello di flusso orizzontale viene esteso alle macchine multi-chip, in modo che abbia sia la gestione dell'uniformità dell'onda epitassiale di alta qualità che la gestione dell'uniformità dell'onda di alta qualità -Ilchins e i vantaggi dei costi di produzione delle macchine multi-chip. Il semiconduttore VETEK può fornire ai clienti un suscettore epitassiale Planetary SIC di rivestimento CVD altamente personalizzato. Se vuoi anche creare un forno plevato MOCVD come Aixtron, vieni da noi!

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Anello rivestito TAC

Come produttore leader e fornitore di prodotti ad anello rivestito TAC in Cina, Vetek Semiconductor si è concentrato sulla R&S e sulla produzione di vari prodotti di rivestimento TAC. Come principali clienti dei prodotti di rivestimento TAC, i produttori europei e americani hanno dato elogi ai nostri prodotti di rivestimento. Benvenuti nella tua ulteriore consultazione.

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Gan Epitaxy Undertaker

Vetek Semiconductor è un'azienda cinese che è un produttore di livello mondiale e fornitore del suscettore GAN Epitaxy. Abbiamo lavorato nel settore dei semiconduttori come i rivestimenti in carburo di silicio e il suscitatore di epitassia GAN per lungo tempo. Possiamo fornirti prodotti eccellenti e prezzi favorevoli. Vetek Semiconductor non vede l'ora di diventare il tuo partner a lungo termine.

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Sussector wafer rivestito tac

Il suscettore Wafer rivestito a semiconduttore VETEK è un vassoio di grafite rivestito con carburo di tantalum per crescita epitassiale in carburo di silicio per migliorare la qualità e le prestazioni del wafer. Vetek è selezionato per la sua tecnologia di rivestimento avanzata e soluzioni durevoli per garantire eccellenti risultati di epitassia SiC e estesa la vita del suscitatore, accolgo con favore le tue ulteriori indagini.

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Anelli di guida per rivestimento TAC

Come produttore leader di anelli di guida di rivestimento TAC in Cina, gli anelli di guida rivestita TAC a semiconduttore Vetek sono componenti importanti nelle apparecchiature MOCVD, garantendo una consegna accurata e stabile del gas durante la crescita epitassiale e sono un materiale indispensabile nella crescita epitassiale semiconduttore. Benvenuti a consultarci.

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Come produttore e fornitore professionista Rivestimento in carburo di tantalio in Cina, abbiamo la nostra fabbrica. Sia che tu abbia bisogno di servizi personalizzati per soddisfare le esigenze specifiche della propria regione o desideri acquistare avanzati e durevoli Rivestimento in carburo di tantalio realizzati in Cina, puoi lasciarci un messaggio.

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Rivestimento in carburo di tantalio

Caratteristiche principali:

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Rivestimento in carburo di tantalio (TaC) su una sezione trasversale microscopica:

Parametro del rivestimento in carburo di tantalio di VeTek Semiconductor:

Dati EDX del rivestimento TaC：

Dati sulla struttura cristallina del rivestimento TaC:

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