Suscettore in grafite rivestito in SiC CVD per supporto wafer

1. Vantaggi del prodotto

• Materiale ad alta purezza:Il materiale in grafite di grado semiconduttore e la densa struttura di rivestimento in SiC riducono al minimo i rischi di contaminazione e migliorano l'affidabilità del suscettore in grafite rivestito in SiC CVD.
• Eccellente uniformità termica:La struttura in grafite ottimizzata e il rivestimento in SiC forniscono un trasferimento di calore stabile e un controllo uniforme della temperatura del wafer.
• Resistenza chimica superiore:Il denso rivestimento SiC offre un'elevata resistenza ai gas di processo e agli ambienti corrosivi.
• Lunga durata:L'elevata durezza e la resistenza all'usura migliorano la durabilità in condizioni di epitassia ad alta temperatura.
• Bassa generazione di particelle:La densa superficie CVD SiC riduce il rilascio di particelle e migliora l'affidabilità del processo wafer.
• Capacità di progettazione personalizzata:Disponibili in diverse dimensioni, strutture e configurazioni a seconda delle esigenze delle apparecchiature.

2. Specifiche tecniche

3. Applicazioni

• Processo di epitassia SiC:Il suscettore di grafite viene utilizzato come supporto del wafer nelle apparecchiature per epitassia SiC, supportando i substrati SiC durante la crescita epitassiale ad alta temperatura.
• Processo di epitassia del silicio:Applicato nei reattori epitassiali di silicio per supportare wafer e mantenere condizioni termiche stabili.
• Epitassia MOCVD:I suscettori in grafite VETEK sono adatti per MOCVD, epitassia LED, epitassia GaN, epitassia silicio e altri processi di produzione di semiconduttori che richiedono eccellente uniformità termica e stabilità chimica.
• Attrezzature per la produzione di semiconduttori:Compatibile con varie piattaforme epitassia, inclusi forni orizzontali LPE, Aixtron, NuFlare e relative apparecchiature a semiconduttore.

4. Perché scegliere VETEK?

VETEK fornisce soluzioni personalizzate di suscettori in grafite rivestiti SiC CVD che integrano purificazione della grafite, lavorazione di precisione, rivestimento CVD e capacità di ispezione. I nostri prodotti suscettori in grafite di grado semiconduttore sono caratterizzati da elevata purezza, spessore del rivestimento uniforme, eccellenti prestazioni termiche e lunga durata per applicazioni esigenti di supporti wafer.