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Deflettore per crogiolo in grafite rivestito in SiC
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Deflettore per crogiolo in grafite rivestito in SiC

Il deflettore del crogiolo di grafite rivestito in SiC è un componente chiave nell'attrezzatura del forno monocristallino, il suo compito è guidare il materiale fuso dal crogiolo alla zona di crescita del cristallo senza intoppi e garantire la qualità e la forma della crescita del singolo cristallo. Il semiconduttore Vetek può fornire materiale di rivestimento sia in grafite che in SiC. Non esitate a contattarci per maggiori dettagli.

Vetek Semiconducotr è un produttore e fornitore di deflettori di deflettore di crogioli di grafite con rivestimento di grafite Cina professionale. Il deflettore di crogioli di grafite rivestito con SIC è un componente cruciale nell'apparecchiatura di fornace monocristallina, incaricato di guidare senza intoppi il materiale fuso dal crogiolo alla zona di crescita dei cristalli, garantendo la qualità e la forma della crescita monocristallo.


Le funzioni del nostro deflettore per crogiolo in grafite rivestito in SiC sono:

Controllo del flusso: dirige il flusso del silicio fuso durante il processo Czochralski, garantendo una distribuzione uniforme e un movimento controllato del silicio fuso per favorire la crescita dei cristalli.

Regolazione della temperatura: aiuta a regolare la distribuzione della temperatura all'interno del silicio fuso, garantendo condizioni ottimali per la crescita dei cristalli e riducendo al minimo i gradienti di temperatura che potrebbero influire sulla qualità del silicio monocristallino.

Prevenzione della contaminazione: controllando il flusso di silicio fuso, aiuta a prevenire la contaminazione dal crogiolo o di altre fonti, mantenendo l'elevata purezza richiesta per le applicazioni a semiconduttore.

Stabilità: il deflettore contribuisce alla stabilità del processo di crescita dei cristalli riducendo la turbolenza e promuovendo un flusso costante di silicio fuso, che è fondamentale per ottenere proprietà cristalline uniformi.

Facilitazione della crescita dei cristalli: guidando il silicio fuso in modo controllato, il deflettore facilita la crescita di un singolo cristallo dal silicio fuso, che è essenziale per produrre wafer di silicio monocristallino di alta qualità utilizzati nella produzione di semiconduttori.


Parametro del prodotto del deflettore crogiolo di grafite rivestito con rivestimento SIC

Proprietà fisiche della grafite isostatica
Proprietà Unità Valore tipico
Densità apparente g/cm³ 1.83
Durezza HSD 58
Resistività elettrica μω.m 10
Resistenza alla flessione MPA 47
Resistenza a compressione MPA 103
Resistenza alla trazione MPA 31
Modulo di Young GPa 11.8
Espansione termica (CTE) 10-6K-1 4.6
Conducibilità termica W · m-1· K-1 130
Dimensione media del grano µm 8-10
Porosità % 10
Contenuto di cenere ppm ≤10 (dopo purificato)

Nota: prima del rivestimento verrà eseguita la prima purificazione, dopo il rivestimento verrà eseguita la seconda purificazione.


Proprietà fisiche di base del rivestimento SiC CVD
Proprietà Valore tipico
Struttura cristallina Polycristalline della fase β FCC, principalmente (111) orientato
Densità 3,21 g/cm³
Durezza Durezza 2500 Vickers (carico 500 g)
Dimensione del grano 2 ~ 10 mm
Purezza chimica 99,99995%
Capacità termica 640 J · kg-1· K-1
Temperatura di sublimazione 2700 ℃
Resistenza alla flessione 415 MPa RT a 4 punti
Modulo di Young Curvatura 4 punti 430 Gpa, 1300 ℃
Conducibilità termica 300W · m-1· K-1
Dilatazione termica (CTE) 4,5×10-6K-1


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