Suscettore rivestito in carburo di tantalio CVD (TaC).

Caratteristiche principali

Applicazioni

Le applicazioni tipiche includono:

• Crescita epitassiale SiC

• Epitassia GaN MOCVD

• Crescita epitassiale AlN

• Produzione di semiconduttori di terza generazione

• Elettronica ad alta potenza

• Dispositivi RF

• Produzione MicroLED

• Ricerca e sistemi di produzione pilota

Attrezzatura compatibile

Le piattaforme compatibili includono:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

•AMEC

• NuFlare

• Reattori CVD e MOCVD personalizzati

Disponibile anche:

• Portawafer

• Suscettori planetari

• Suscettori a canna

• Dischi di rotazione

• Parti Mezzaluna

• Piastre di copertura

• Assemblaggi di grafite

• Componenti del campo termico personalizzati

Specifiche tecniche

Domande frequenti

1. Che cos'è un suscettore rivestito in TaC CVD?

Un componente di grafite di elevata purezza protetto da un denso rivestimento CVD TaC utilizzato come supporto del wafer durante la crescita epitassiale.

2. Perché utilizzare il coa TaCting invece del rivestimento SiC?

TaC offre una maggiore resistenza alla temperatura, stabilità chimica superiore e maggiore durata.

3.Quali processi di semiconduttori utilizzano TaC-csuscettori rotati?

Epitassia SiC, GaN MOCVD, epitassia AlN e altri processi di crescita dei cristalli ad alta temperatura.

4. VETEK può produrre suscettori personalizzati?

SÌ. Forniamo progetti personalizzati basati sui disegni del cliente e sui requisiti di processo.

5. Quali marche di reattori sono supportate?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare e altri sistemi tradizionali.